[发明专利]图像处理方法和装置有效
申请号: | 201210017861.1 | 申请日: | 2012-01-19 |
公开(公告)号: | CN103218847A | 公开(公告)日: | 2013-07-24 |
发明(设计)人: | 蔡明祥 | 申请(专利权)人: | 联想(北京)有限公司 |
主分类号: | G06T15/04 | 分类号: | G06T15/04 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100085 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图像 处理 方法 装置 | ||
1.一种图像处理的方法,应用于一待处理图像,所述待处理图像上具有一边缘失真的图形,其特征在于,所述方法包括:
设置一张全透明纹理,所述全透明纹理大于所述边缘失真的图形;
将与所述边缘失真的图形对应一致的另一边缘失真的图形覆盖在所述全透明纹理上,形成一合成纹理;
将所述合成纹理映射于所述待处理图像上,使得所述另一边缘失真的图形在所述待处理图像上的位置与所述边缘失真的图形在所述待处理图像上的位置相同;以及
控制所述合成纹理的内部失真。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述设置一张全透明纹理之前,放大所述边缘失真的图形的映射区域,所述映射区域具有顶点。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述全透明纹理能够覆盖所述映射区域。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,将所述合成纹理映射于所述待处理图像上,具体为:将所述合成纹理的顶点分别映射到所述映射区域的顶点上。
5.如权利要求1-4任一项所述的方法,其特征在于,所述控制所述合成纹理的内部失真,具体为:采用MIPMAP的方式控制所述合成纹理的内部失真。
6.一种图像处理装置,应用于一待处理图像,所述待处理图像上具有一边缘失真的图形,其特征在于,所述装置包括:
设置模块,用于设置一张全透明纹理,所述全透明纹理大于所述边缘失真的图形;
合成模块,用于将与所述边缘失真的图形对应一致的另一边缘失真的图形覆盖在所述全透明纹理上,形成一合成纹理;
映射模块,用于将所述合成纹理映射于所述待处理图像上,使得所述另一边缘失真的图形在所述待处理图像上的位置与所述边缘失真的图形在所述待处理图像上的位置相同;
控制模块,用于控制所述合成纹理的内部失真。
7.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述装置还包括一放大模块,用于在所述设置模块设置一张全透明纹理之前,放大所述边缘失真的图形的映射区域,所述映射区域具有顶点。
8.如权利要求7所述的装置,其特征在于,所述全透明纹理能够覆盖所述映射区域。
9.如权利要求8所述的装置,其特征在于,所述映射模块用于将所述合成纹理映射于所述待处理图像上,具体为:所述映射模块将所述合成纹理的顶点分别映射到所述映射区域的顶点上。
10.如权利要求6-9任一项所述的装置,其特征在于,所述控制模块用于控制所述合成纹理的内部失真,具体为:所述控制模块采用MIPMAP的方式控制所述合成纹理的内部失真。
11.一种电子终端,其特征在于,所述电子终端包括:
显示器,用于显示具有一边缘失真的图形的待处理图像;
主板,与所述显示器电性连接;
处理单元,设置在所述主板上,用于设置一张全透明纹理,所述全透明纹理大于所述边缘失真的图形,并将与所述边缘失真的图形完全对应一致的另一边缘失真的图形覆盖在所述全透明纹理上,形成一合成纹理,然后将所述合成纹理映射于所述待处理图像上,使得所述另一边缘失真的图形在所述待处理图像上的位置与所述边缘失真的图形在所述待处理图像上的位置相同,且控制所述合成纹理的内部失真。
12.如权利要求11所述的电子终端,其特征在于,所述处理单元还包括第一处理芯片,用于在所述设置一张全透明纹理之前,放大所述边缘失真的图形的映射区域,所述映射区域具有顶点。
13.如权利要求12所述的电子终端,其特征在于,所述全透明纹理能够覆盖所述映射区域。
14.如权利要求13所述的电子终端,其特征在于,所述处理单元还包括第二处理芯片,用于将所述合成纹理映射于所述待处理图像上,具体为:第二处理芯片将所述合成纹理的顶点分别映射到所述映射区域的顶点上。
15.如权利要求11-14任一项所述的电子终端,其特征在于,所述处理单元还包括第三处理芯片,用于控制所述合成纹理的内部失真,具体为:所述第三处理芯片采用MIPMAP的方式控制所述合成纹理的内部失真。
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