[发明专利]光纤对接连接器的安装座及其制作方法无效

专利信息
申请号: 201210014895.5 申请日: 2012-01-18
公开(公告)号: CN102540354A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 袁晓君;陈春光;廖鹏 申请(专利权)人: 深圳市芯联芯通信科技有限公司
主分类号: G02B6/38 分类号: G02B6/38;G02B6/136
代理公司: 深圳市科吉华烽知识产权事务所 44248 代理人: 孙伟
地址: 518000 广东省深圳市福田区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 光纤 对接 连接器 安装 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种光纤对接连接器的安装座,其特征在于:该安装座包括座体(10)以及设置于该座体(10)上表面的V型槽(20),所述V型槽(20)的表面覆盖有保护层(30)。

2.根据权利要求1所述光纤对接连接器的安装座,其特征在于:所述V型槽(20)为至少两条,各V型槽(20)平行设置,所述保护层(30)覆盖各V型槽(20)。

3.根据权利要求1或2所述光纤对接连接器的安装座,其特征在于:所述座体(10)为硅基材料制成。

4.根据权利要求3所述光纤对接连接器的安装座,其特征在于:所述保护层(30)为石英玻璃。

5.一种如权利要求1至4中任一项所述光纤对接连接器的安装座的制作方法,其特征在于:该方法包括以下步骤: A.加工硅基材料的安装座,并在该安装座上表面加工V型槽; B.在步骤A加工的V型槽上化学沉淀保护层。

6.根据权利要求5所述的制作方法,其特征在于:所述步骤A中包括以下分步骤: A1.选择晶圆,并采用化学方式生长氧化层和氮层; A2.高速旋转涂抹光刻胶,并光照制版; A3.刻蚀氧化层和氮层,除去光刻胶并清洗; A4.第二次蚀刻,去除氧化层和氮层; A5.化学沉积SiO2。

7.根据权利要求6所述的制作方法,其特征在于:所述步骤A3中刻蚀氧化层和氮层采用干法蚀刻工艺。

8.根据权利要求7所述的制作方法,其特征在于:所述步骤A3中刻蚀氧化层和氮层采用反应离子刻蚀。

9.根据权利要求6至8中任一项所述的制作方法,其特征在于:所述步骤A4中的第二次蚀刻采用氢氧化钾蚀刻液。

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