[发明专利]光纤对接连接器的安装座及其制作方法无效
申请号: | 201210014895.5 | 申请日: | 2012-01-18 |
公开(公告)号: | CN102540354A | 公开(公告)日: | 2012-07-04 |
发明(设计)人: | 袁晓君;陈春光;廖鹏 | 申请(专利权)人: | 深圳市芯联芯通信科技有限公司 |
主分类号: | G02B6/38 | 分类号: | G02B6/38;G02B6/136 |
代理公司: | 深圳市科吉华烽知识产权事务所 44248 | 代理人: | 孙伟 |
地址: | 518000 广东省深圳市福田区*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光纤 对接 连接器 安装 及其 制作方法 | ||
1.一种光纤对接连接器的安装座,其特征在于:该安装座包括座体(10)以及设置于该座体(10)上表面的V型槽(20),所述V型槽(20)的表面覆盖有保护层(30)。
2.根据权利要求1所述光纤对接连接器的安装座,其特征在于:所述V型槽(20)为至少两条,各V型槽(20)平行设置,所述保护层(30)覆盖各V型槽(20)。
3.根据权利要求1或2所述光纤对接连接器的安装座,其特征在于:所述座体(10)为硅基材料制成。
4.根据权利要求3所述光纤对接连接器的安装座,其特征在于:所述保护层(30)为石英玻璃。
5.一种如权利要求1至4中任一项所述光纤对接连接器的安装座的制作方法,其特征在于:该方法包括以下步骤: A.加工硅基材料的安装座,并在该安装座上表面加工V型槽; B.在步骤A加工的V型槽上化学沉淀保护层。
6.根据权利要求5所述的制作方法,其特征在于:所述步骤A中包括以下分步骤: A1.选择晶圆,并采用化学方式生长氧化层和氮层; A2.高速旋转涂抹光刻胶,并光照制版; A3.刻蚀氧化层和氮层,除去光刻胶并清洗; A4.第二次蚀刻,去除氧化层和氮层; A5.化学沉积SiO2。
7.根据权利要求6所述的制作方法,其特征在于:所述步骤A3中刻蚀氧化层和氮层采用干法蚀刻工艺。
8.根据权利要求7所述的制作方法,其特征在于:所述步骤A3中刻蚀氧化层和氮层采用反应离子刻蚀。
9.根据权利要求6至8中任一项所述的制作方法,其特征在于:所述步骤A4中的第二次蚀刻采用氢氧化钾蚀刻液。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市芯联芯通信科技有限公司,未经深圳市芯联芯通信科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210014895.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:实时锁屏系统
- 下一篇:具有移动机构的开关疲劳测试架