[发明专利]腐蚀传感器和用于制造腐蚀传感器的方法有效

专利信息
申请号: 201210014095.3 申请日: 2012-01-06
公开(公告)号: CN102590295A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: R·E·赫夫纳;P·S·迪马斯焦 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: G01N27/26 分类号: G01N27/26
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李强;谭祐祥
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 腐蚀 传感器 用于 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种腐蚀传感器(20),包括:

a.多个传导部分(24);以及

b.在相邻的传导部分(24)之间的至少一个非传导部分(26),其中,在相邻的传导部分(24)之间的所述至少一个非传导部分(26)具有小于大约500微米的尺寸。

2.根据权利要求1所述的腐蚀传感器(20),其特征在于,在相邻的传导部分(24)之间的所述至少一个非传导部分(26)具有小于大约5微米的尺寸。

3.根据前述权利要求中的任一项所述的腐蚀传感器(20),其特征在于,所述多个传导部分(24)中的各个具有小于大约500微米的尺寸。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的腐蚀传感器(20),其特征在于,所述腐蚀传感器(20)进一步包括在所述传导部分(24)和相邻的传导部分(24)之间的所述至少一个非传导部分(26)之间的冶金结合部(28)。

5.一种用于制造腐蚀传感器(20)的方法,包括:

a.将非传导材料(52)施用到衬底(22)上;

b.将传导材料(54)施用到所述非传导材料(52)上的离散位置上;以及

c.将铜焊材料(56)施用到所述传导材料(54)的各个离散位置的周围。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述方法进一步包括施用所述传导材料(54),使得所述离散位置具有小于大约500微米的尺寸。

7.根据权利要求5至6中的任一项所述的方法,其特征在于,所述方法进一步包括施用所述传导材料(54),使得传导材料(54)的所述离散位置之间的距离小于大约500微米。

8.根据权利要求5至7中的任一项所述的方法,其特征在于,所述方法进一步包括施用所述传导材料(54),使得传导材料(54)的所述离散位置之间的距离小于大约5微米。

9.根据权利要求5至8中的任一项所述的方法,其特征在于,所述方法进一步包括使所述非传导材料(52)或所述传导材料(54)中的至少一个固化。

10.根据权利要求5至9中的任一项所述的方法,其特征在于,所述方法进一步包括将所述非传导材料(52)铜焊到所述传导材料(54)上。

11.根据权利要求5至10中的任一项所述的方法,其特征在于,所述方法进一步包括将电极(32)连接到所述传导材料(54)的各个离散位置上。

12.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述方法进一步包括在所述电极(32)上形成氧化物层(72)。

13.根据权利要求5至11中的任一项所述的方法,其特征在于,所述方法进一步包括将电传感器(34)连接到所述传导材料(54)的各个离散位置上。

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