[发明专利]一种制版光刻设备动态稳定性测量方法

权利要求书

1.一种制版光刻设备动态稳定性测量方法，其特征在于包含如下步骤：

1)、将掩模板固定在载物平台上，并在掩模板上制作P(P＞1)个定位标记；

2)、将所述P个定位标记依次成像于制版光刻设备中的CCD相机视场内，并通过图像处理技术对定位标记进行处理和计算，以得出每一个定位标记的中心与CCD相机视场中心的偏移量，然后移动载物平台，使每一个定位标记的中心均移动至与CCD相机视场中心相重合，并依次记录与每一个定位标记中心相对应的当此定位标记中心与CCD相机视场中心重合时的载物平台的空间物理坐标；

3)、逐次地，以载物平台的每一个空间物理坐标为中心，使载物平台在CCD相机的视场内重复做移出和回位运动，也即先使载物平台自其空间物理坐标处向外移动一段距离，待载物平台停稳后，再使载物平台重新移动至其空间物理坐标处；每一次移出和回位运动结束，且当载物平台重新移动至其空间物理坐标处后，通过CCD相机采集定位标记的图像，并计算出与此空间物理坐标相对应的定位标记中心与CCD相机视场中心之间的中心偏移量，则对每一个定位标记中心均对应得到多个中心偏移量；

4)、对每一个定位标记中心所对应的多个中心偏移量通过数理统计算法而计算出与该定位标记中心相对应的重复定位精度值，得到与P个定位标记的中心分别对应的重复定位精度值；

5)、最后对P个重复定位精度值通过数理统计算法而计算得出此光刻系统的动态重复定位精度值。

2.根据权利要求1所述的制版光刻设备动态稳定性测量方法，其特征在于：重复3)、4)步骤m次，最终对每一个定位标记均得到m个重复定位精度值，最后对P×m个重复定位精度值通过数理统计算法而计算得出此光刻系统的动态稳定性值。

3.根据权利要求1或2所述的制版光刻设备动态稳定性测量方法，其特征在于：所述定位标记均匀地分布在掩模板上。

4.根据权利要求1或2所述的制版光刻设备动态稳定性测量方法，其特征在于：所述制版光刻设备包括曝光光源、光学集光系统、投影光学系统、镜头转换机构、光学定位检测系统以及对焦系统；所述对焦系统中的对焦光源所发出的光依次通过光学定位检测系统和投影光学系统中的光学器件后照射在掩模板上，光经过掩模板反射后再依次通过投影光学系统中的光学器件、光学定位检测系统的光学器件而出射至光学定位检测系统中的CCD相机视场内；

在步骤2)中，移动载物平台而使选中的定位标记进入CCD相机视场内，再利用对焦技术，计算出CCD相机的焦平面位置，并驱动载物平台实现定位标记的对焦，也即实现所述定位标记成像于CCD相机视场内。

5.根据权利要求3所述的制版光刻设备动态稳定性测量方法，其特征在于：将掩模板的工作平面分别沿二维方向也即X方向和Y方向n等分，得到n×n个小方形区域，在每个小方形区域的顶角处加工出定位标记，最终得到均匀分布的n+1行、n+1列定位标记，且P＝(n+1)×(n+1)。

6.根据权利要求4所述的制版光刻设备动态稳定性测量方法，其特征在于：所述光学集光系统包括光学集光器和图形发生器，所述曝光光源与光学集光器对应；所述投影光学系统包括第一透镜或透镜组、第一分光棱镜、第二分光棱镜和至少两个投影镜头，所述第一透镜或透镜组和第一分光棱镜自上而下依次设置在图形发生器的下侧，第二分光棱镜设置在第一分光棱镜的旁侧，所述投影镜头设置在第二分光棱镜的下侧，且所述投影镜头设置在轮盘状的镜头转换机构上；所述光学定位检测系统包括自上而下设置的CCD相机、第二透镜或透镜组和第三分光棱镜，第二透镜或透镜组自上而下依次通过第三分光棱镜和第二分光棱镜与所述投影镜头对应；所述对焦系统设置在投影光学系统的旁侧。

7.根据权利要求1或2或3或5所述的制版光刻设备动态稳定性测量方法，其特征在于：所述定位标记呈十字状。

8.根据权利要求1或2或3或5所述的制版光刻设备动态稳定性测量方法，其特征在于：在步骤3)中，载物平台在以载物平台的空间物理坐标为圆心，以a为半径的限位圆内做移出和回位运动，且a小于或等于CCD相机的视场半径。

9.根据权利要求8所述的制版光刻设备动态稳定性测量方法，其特征在于：所述载物平台在限位圆内分别沿八个方向移出距离a，相邻两个方向之间的夹角角度为45°。