[发明专利]光学视野调整方法无效

专利信息
申请号: 201210003340.0 申请日: 2012-01-06
公开(公告)号: CN103196831A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 高志豪;方志恒 申请(专利权)人: 由田信息技术(上海)有限公司
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G02B7/182
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201109 上海市闵*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光学 视野 调整 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种光学视野调整方法,其用反射镜片组件所夹之第三夹角进行水平方向横移达成调整发射光源明暗视野亮度之目的。

背景技术

明视野观察原理系将光线均匀照射在待测物上,捕捉透射物品或反射回来的光线之观测方式,然后从物品的光线透射率或反射率的对应数值计算出所观测图像之对比值,属于最基本的观测方法。

暗视野观察原理系光线经由暗视野聚光镜不直接照射在待测物上,而是仅将光线斜射于待测物上,利用聚光镜内部反射所产生的绕射光照射在待测物表面,因此只捕捉物品表面之散射光线,经此产生背景暗、主体发光之效果。

实际应用时,通常检测设备针对印刷电路板、各种尺寸液晶面板、半导体晶圆、晶粒或芯片、照射镜片或透明玻璃等相关具镜面材质之样品当观测物显示图像背景变暗,则其细微的伤痕或凹凸缺陷处所反射出来的散射光线就能被检测仪器清楚看见,此时即称为暗视野观测,由于某些特定情况下,电路板、液晶面板、晶圆、镜片或玻璃等相关具镜面材质之样品皆存在非常微细且肉眼无法察觉之缺陷及凹凸不平整,利用普通明视野观测并无法及时察觉,此时必须透过高灵敏度精密检测装置应用暗视野观测方式将待测物微细缺陷指出。

如图1所示,是传统发射光源调整之光学状态仿真示意图。首先固定发射光源1与线性扫描取像系统之工作距离,然后将取像系统角度调整固定,即摄影机2与镜头3以及待测物4入射光线路径与第一法线5所夹之左侧夹角θ11,然后透过搬移发射光源1构件位置移动程序,完成光源系统对准固定至右侧夹角θ12,透过操作人员实际需求,调整至明视野(光线反射)或暗视野(光线漫射)状态,也可以是明暗视野状态,就是介于明暗视野交界之中间区域。

经由上述说明得知传统光源系统明暗视野状态调整必须直接利用搬移发射光源1构件位置完成校准程序,当待测物体积及重量愈庞大时,则发射光源1构件体积及重量也会相对更加庞大,如此将造成操作更加不方便且校准精度也会受影响

发明内容

本发明的目的是提供一种反射镜片设计,将反射组件与法线延伸线所夹之第三夹角进行水平与垂直方向之位置与角度移动调整,改善传统技术中直接针对体积庞大且移动不易之发射光源机台位置调整之缺失,仅透过微调轻薄微型之反射组件即可对发射光源完成视野明暗度调整。

为实现上述的目的,本发明提出了一种光学视野调整方法,包括:光电耦合器、透镜及发射光源;本发明系应用于光学检测设备中,透镜位于光电耦合器之前方,发射光源投射于反射组件后反射至待测物上,而后入射至透镜及光电耦合器,该透镜及光电耦合器与法线形成第一夹角,反射组件反射至待测物之反射线与法线形成第三夹角,反射组件与法线平行延伸线形成第二夹角。本发明利用反射组件所夹之第三夹角进行水平与垂直方向之位置与角度移动调整,改善传统技术中直接针对体积庞大且移动不易之发射光源机台位置调整之缺失,仅透过微调轻薄微型之反射组件即可对发射光源完成视野明暗度调整。

透过反射镜片之设计,将反射组件设置于发射光源投射路径上,由于反射组件反射至待测物之反射路径与法线会形成一第三夹角,而反射组件与法线平行延伸线也会形成一第二夹角,当待测物需要进行明暗视野调整时,先以下列数学方程式计算出第三夹角需位移之角度,然后直接透过反射组件水平与垂直方向之位置与角度移动调整,将反射组件微调至数学方程式计算出之第三夹角移动数值与调整角度,经此完成发射光源视野明暗度调整。

(90度-2*θ2)=θ3

另外,由于反射组件选用反射镜片材质组成,其反射效率较佳且光源能量损耗低,即使计算出之调整角度数值极为渺小,同样能藉由轻薄微型之反射组件轻易达成水平与垂直方向之位置与角度调整目的。

附图说明

图1是习知技术之光学状态仿真示意图。

图2是本发明第一实施例之光学状态仿真示意图。

图3是本发明第二实施例针对反射组件水平方向位置横移之光学状态仿真示意图。

图4是本发明第三实施例针对反射组件垂直方向角度微调之光学状态仿真示意图。

附图标号说明:

1发射光源         2摄影机                3镜头

4待测物           5第一法线              θ11左侧夹角

θ12右侧夹角      21光电耦合器           22透镜

23发射光源        24反射组件             25待测物

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