[发明专利]打印设备和调整图案打印方法有效

专利信息
申请号: 201210002169.1 申请日: 2012-01-05
公开(公告)号: CN102582255A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 西冈真吾;富田晃弘;中岛芳纪;内田直树 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: B41J2/01 分类号: B41J2/01
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 打印 设备 调整 图案 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及诸如打印机等的打印设备和用于该打印设备的调整图案打印方法。

背景技术

日本特开平10-329381(1998)号公报公开了一种用于调整喷墨打印的点打印位置的处理(以下也将该处理称为打印位置调整处理或对准(registration)处理)。更具体地,通过基准喷嘴阵列来打印“基准图案”,之后,在基准图案上打印多个“偏移图案”,其中,偏移图案是通过打印位置相对于基准图案每次少许偏移的不同喷嘴阵列而打印的。然后,基于偏移图案的打印位置所偏移的量和光学反射率的拐点的位置,计算墨滴着落位置误差的量,并且校正打印头喷墨的喷出定时。

然而,在上述公报所公开的技术中存在的问题是:对于对准处理,需要相对大量的介质或墨,并且处理时间长。还存在对更精确的对准处理的要求。

发明内容

本发明的目的是提供一种能够在执行对准处理时降低介质和墨的使用量、缩短处理时间并且提高调整精度的打印设备和用于该打印设备的调整图案打印方法。

本发明提供一种打印设备,用于通过使头单元相对于打印介质进行移动来打印图像,其中,所述头单元具有用于在共同区域中进行打印的第一打印头和第二打印头,所述第一打印头具有由用于打印点的多个打印元件所构成的第一打印元件阵列,所述第二打印头具有沿着所述第一打印元件阵列进行排列的并且由用于打印点的多个打印元件所构成的第二打印元件阵列,所述打印设备包括:

图案打印单元,用于使所述第一打印元件阵列的部分区域中的多个打印元件以及所述第二打印元件阵列的与所述第一打印元件阵列的所述部分区域相对应的部分区域中的多个打印元件在打印介质上打印多个调整图案,其中,所述多个调整图案用于获取所述第二打印头的打印位置相对于所述第一打印头的打印位置的偏移量;

获取单元,用于获取所述第一打印元件阵列和所述第二打印元件阵列之间的相对倾斜量;以及

选择单元,用于基于所述第一打印元件阵列和所述第二打印元件阵列之间的相对倾斜量,选择所述第一打印元件阵列和所述第二打印元件阵列各自的所述部分区域的位置。

本发明提供了另一种打印设备,用于通过使头单元相对于打印介质进行移动来打印图像,其中,所述头单元具有用于在共同区域中进行打印的第一打印头、第二打印头和第三打印头,所述第一打印头具有由用于打印点的多个打印元件所构成的第一打印元件阵列,所述第二打印头具有沿着所述第一打印元件阵列进行排列的并且由用于打印点的多个打印元件所构成的第二打印元件阵列,所述第三打印头具有沿着所述第二打印元件阵列进行排列的并且由用于打印点的多个打印元件所构成的第三打印元件阵列,所述打印设备包括:

图案打印单元,用于使所述第一打印元件阵列的第一部分区域中的多个打印元件以及所述第二打印元件阵列的与所述第一打印元件阵列的第一部分区域相对应的第一部分区域中的多个打印元件在打印介质上打印多个第一调整图案,并且使所述第一打印元件阵列的第二部分区域中的多个打印元件以及所述第三打印元件阵列的与所述第一打印元件阵列的第二部分区域相对应的第二部分区域中的多个打印元件在打印介质上打印多个第二调整图案,其中,所述多个第一调整图案用于获取所述第二打印头的打印位置相对于所述第一打印头的打印位置的偏移量,所述多个第二调整图案用于获取所述第三打印头的打印位置相对于所述第一打印头的打印位置的偏移量;

获取单元,用于获取所述第一打印元件阵列与所述第二打印元件阵列之间的相对倾斜量以及所述第一打印元件阵列与所述第三打印元件阵列之间的相对倾斜量;以及

选择单元,用于:

在所述第一打印元件阵列与所述第二打印元件阵列之间的相对倾斜量等于或小于所述第一打印元件阵列与所述第三打印元件阵列之间的相对倾斜量的情况下,选择所述第一打印元件阵列和所述第二打印元件阵列各自的一个端部区域或另一端部区域作为第一部分区域,并且选择所述第一打印元件阵列和所述第三打印元件阵列各自的中央区域作为第二部分区域,以及

在所述第一打印元件阵列与所述第二打印元件阵列之间的相对倾斜量大于所述第一打印元件阵列与所述第三打印元件阵列之间的相对倾斜量的情况下,选择所述第一打印元件阵列和所述第二打印元件阵列各自的中央区域作为第一部分区域,并且选择所述第一打印元件阵列和所述第三打印元件阵列各自的一个端部区域或另一端部区域作为第二部分区域。

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