[发明专利]蒸镀方法、蒸镀装置和有机EL显示装置

权利要求书

1.一种蒸镀方法，其特征在于：

所述蒸镀方法是在基板上形成规定图案的覆膜的蒸镀方法，

所述蒸镀方法具有使蒸镀颗粒附着在所述基板上形成所述覆膜的蒸镀工序，

所述蒸镀工序是使用蒸镀单元使蒸镀颗粒附着在所述基板上的工序，所述蒸镀单元包括：具备在第一方向上的不同位置配置的多个蒸镀源开口的蒸镀源；配置在所述多个蒸镀源开口与所述基板之间的蒸镀掩模；和包含沿着所述第一方向配置的多个限制板且配置在所述蒸镀源与所述蒸镀掩模之间的限制板单元，在所述蒸镀工序中，使用所述蒸镀单元，在使所述基板与所述蒸镀掩模隔开固定间隔的状态下，使所述基板和所述蒸镀单元中的一个，沿着与所述基板的法线方向和所述第一方向正交的第二方向，相对于所述基板和所述蒸镀单元中的另一个相对移动，同时使从所述多个蒸镀源开口放出且通过在所述第一方向上相邻的所述限制板间的空间和在所述蒸镀掩模形成的多个掩模开口的蒸镀颗粒附着在所述基板上，

所述蒸镀方法还具有：

判断工序，判断是否需要对所述多个限制板中的至少一个在所述第一方向上的位置进行校正；和

校正工序，在所述判断工序中判断为需要进行校正的情况下，对所述多个限制板中的至少一个在所述第一方向上的位置进行校正。

2.如权利要求1所述的蒸镀方法，其特征在于：

还具有对所述多个限制板中的至少一个在所述第一方向上的位置和所述多个蒸镀源开口中的至少一个在所述第一方向上的位置进行测定的测定工序，

基于在所述测定工序中测定的所述限制板和所述蒸镀源开口的位置，在所述判断工序中判断是否需要进行校正。

3.如权利要求1或2所述的蒸镀方法，其特征在于：

在所述蒸镀工序之前，进行所述判断工序和所述校正工序。

4.如权利要求1～3中任一项所述的蒸镀方法，其特征在于：

在所述蒸镀工序中，进行所述判断工序和所述校正工序。

5.如权利要求1所述的蒸镀方法，其特征在于：

还具有在所述蒸镀工序之前对检验用基板进行试蒸镀的工序，

基于在所述检验用基板上形成的覆膜的评价结果，在所述判断工序中判断是否需要进行校正。

6.如权利要求1～5中任一项所述的蒸镀方法，其特征在于：

在所述校正工序中，使所述限制板单元整体在所述第一方向上移动，对所述多个限制板在所述第一方向上的位置进行校正。

7.如权利要求1～6中任一项所述的蒸镀方法，其特征在于：

所述限制板单元载置在限制板托架上，

在所述校正工序中，使所述限制板托架在所述第一方向上移动，对所述多个限制板在所述第一方向上的位置进行校正。

8.如权利要求1～5中任一项所述的蒸镀方法，其特征在于：

所述限制板单元在所述第一方向上被分割为多个单元部件，

在所述校正工序中，使所述多个单元部件中的至少一个在所述第一方向上移动，对所述多个限制板中的至少一个在所述第一方向上的位置进行校正。

9.如权利要求1～8中任一项所述的蒸镀方法，其特征在于：

所述覆膜为有机EL元件的发光层。

10.一种有机EL显示装置，其特征在于：

具备使用权利要求1～9中任一项所述的蒸镀方法形成的发光层。

11.一种蒸镀装置，其特征在于：

所述蒸镀装置是在基板上形成规定图案的覆膜的蒸镀装置，

所述蒸镀装置包括：

蒸镀单元，所述蒸镀单元具备：具备在第一方向上的不同位置配置的多个蒸镀源开口的蒸镀源，配置在所述多个蒸镀源开口与所述基板之间的蒸镀掩模，和包含沿着所述第一方向配置的多个限制板且配置在所述蒸镀源与所述蒸镀掩模之间的限制板单元；

在使所述基板与所述蒸镀掩模隔开固定间隔的状态下，使所述基板和所述蒸镀单元中的一个，沿着与所述基板的法线方向和所述第一方向正交的第二方向，相对于所述基板和所述蒸镀单元中的另一个相对移动的移动机构；和

对所述多个限制板中的至少一个在所述第一方向上的位置进行校正的位置调整机构。