[发明专利]喷丸处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及向被处理对象物投射投射材料的喷丸处理装置。

背景技术

喷丸处理装置中存在如下结构：将工件台固定于在近似水平面内旋转的旋转工作台上（例如，参照专利文献1）。在这样的装置中，将产品（被处理对象物）配置于工件台的上方，并且一边使旋转工作台旋转一边投射投射材料。

专利文献1：日本特开2002-96264公报

然而，在该装置中，由于当进行产品的输入输出时无法进行投射，因此而产生处理等待时间。

发明内容

本发明是考虑到上述事实而完成的，其目的在于获得一种喷丸处理装置，能够维持被实施喷丸处理的被处理对象物的品质的稳定性，并能够抑制被处理对象物的处理等待时间。

技术方案1所记载的本发明的喷丸处理装置具有：离心式投射机，其借助离心力使投射材料加速并对被处理对象物投射加速后的投射材料；能够旋转的第一旋转工作台，其配置于包括由所述离心式投射机对投射材料进行投射的投射范围和所述投射范围以外的非投射范围的位置；第二旋转工作台，其在所述第一旋转工作台上配置有多个，具备与所述第一旋转工作台的旋转轴平行的旋转轴而能够旋转，并且供所述被处理对象物载置；以及按压机构，其设置于所述第一旋转工作台的所述投射范围的上侧，并具备按压部，该按压部从上侧按压所述第二旋转工作台上的所述被处理对象物且能够与所述被处理对象物一起旋转。

根据技术方案1所记载的本发明的喷丸处理装置，第一旋转工作台配置于包括由离心式投射机对投射材料进行投射的投射范围和该投射范围以外的非投射范围的位置且能够旋转。另外，在第一旋转工作台上配置有多个第二旋转工作台，并且，该第二旋转工作台具备与第一旋转工作台的旋转轴平行的旋转轴而能够旋转，该第二旋转工作台供被处理对象物载置。而且，通过离心式投射机利用离心力使投射材料加速并对第二旋转工作台上的被处理对象物投射加速后的投射材料。

此处，在第一旋转工作台的投射范围的上侧设置有按压机构，利用按压机构的按压部从上侧对第二旋转工作台上的被处理对象物进行按压。另外，按压部能够与被处理对象物一起旋转。因此，被处理对象物以稳定的姿势进行旋转并被投射投射材料，另外，即使在这样的投射过程中，也能够在配置于第一旋转工作台的非投射范围的上方的第二旋转工作台上输入输出被处理对象物。

在技术方案1所记载的结构的基础上，在技术方案2所记载的本发明的喷丸处理装置中，设有检测到所述按压部的旋转的旋转检测单元。

根据技术方案2所记载的本发明的喷丸处理装置，当按压部与被处理对象物一起旋转时，利用旋转检测单元检测到该旋转。因此，能够确认被处理对象物是否正在旋转，从而能够判断是否遍及被处理对象物的整周均匀地进行了投射。

在技术方案1或者技术方案2所记载的结构的基础上，在技术方案3所记载的本发明的喷丸处理装置中，具有：分度装置，其使所述第一旋转工作台以设定成与所述第二旋转工作台的配置对应的旋转角度绕所述第一旋转工作台的旋转轴旋转，并且在使所述第一旋转工作台暂时停止的状态下，该分度装置使得所述第二旋转工作台中的任意第二旋转工作台被配置于所述第一旋转工作台的所述投射范围内；以及控制部，其进行控制以在基于所述分度装置的所述第一旋转工作台的旋转时使基于所述离心式投射机的投射中断，并且进行控制以在所述第一旋转工作台的暂时停止时进行基于所述离心式投射机的投射。

根据技术方案3所记载的本发明的喷丸处理装置，利用分度装置而使第一旋转工作台以设定成与第二旋转工作台的配置对应的旋转角度绕第一旋转工作台的旋转轴旋转。另外，在使第一旋转工作台暂时停止的状态下，使得第二旋转工作台中的任意第二旋转工作台被配置于第一旋转工作台的投射范围内。此处，利用控制部进行控制以在基于分度装置的第一旋转工作台的旋转时使基于离心式投射机的投射中断，并利用控制部进行控制以在第一旋转工作台的暂时停止时进行基于离心式投射机的投射。因此，能够抑制投射材料的漏出，并且能够遍及被处理对象物的整周均匀地进行投射。

在技术方案3所记载的结构的基础上，在技术方案4所记载的本发明的喷丸处理装置中，具有：第一啮合部，其配置于所述第二旋转工作台的下侧，且设于所述第二旋转工作台的旋转轴；第二啮合部，其设于所述第一旋转工作台的所述投射范围的下侧，能够与所述第一啮合部啮合，并在与所述第一啮合部啮合的状态下传递旋转驱动力；以及接触分离机构，其在所述第一旋转工作台的暂时停止时使所述第二啮合部与所述第一啮合部接触，并且在所述第一旋转工作台进行旋转时使所述第二啮合部与所述第一啮合部分离。