[发明专利]双官能(甲基)丙烯酸酯书写单体有效

专利信息
申请号: 201180049201.5 申请日: 2011-08-10
公开(公告)号: CN103153948A 公开(公告)日: 2013-06-12
发明(设计)人: T·法克;夫里德里克-卡尔·布鲁德;T·罗尔;马克-斯蒂芬·韦泽;D·奥内尔;H·伯尔尼斯 申请(专利权)人: 拜耳知识产权有限责任公司
主分类号: C07C323/12 分类号: C07C323/12;C08G18/67;C08L75/16;G03F7/039
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人: 王媛;钟守期
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 官能 甲基 丙烯酸酯 书写 单体
【权利要求书】:

1.式(I)化合物

                                              式(I)

其中

X为CH3或氢,

Z为直链或支链C2至C4烷基,

R为直链或支链的,任选地杂原子取代的脂族、芳族或芳脂族基团,

Y各自独立地为氢、甲基、乙基、丙基、正丁基、叔丁基、氯、溴、碘、甲硫基、苯基或苯硫基,

n为0至4,并且

m为0至5。

2.权利要求1的化合物,其特征在于R为2至22个碳原子的直链或支链的脂族、芳族或芳脂族基团,其优选被一个或多个氧原子、氮原子和/或硫原子所取代。

3.权利要求2的化合物,其特征在于R具有2至16个碳原子、0至4个氧原子、0至1个氮原子和0至1个硫原子。

4.权利要求1至3中任一项的化合物,其特征在于R包括至少一个选自醚(-O-)、硫醚(-S-)、酯(-O-CO)、氨基甲酸酯(NH-CO)的官能团。

5.权利要求1至4中任一项的化合物,其特征在于X为氢。

6.权利要求1至5中任一项的化合物,其特征在于Y各自独立地为H、甲基、苯基、甲硫基或苯硫基并且优选为氢。

7.权利要求1至6中任一项的化合物,其特征在于n≥1并且≤4和/或m≥1并且≤5并且优选m+n<4。

8.权利要求1至7中任一项的化合物,其特征在于Z各自为i≥2并且≤4的(CH2)i基团或-CH2-CH(CH3)-基团。

9.权利要求1至8中任一项的化合物作为光敏聚合物制剂中书写单体的用途。

10.光敏聚合物制剂,包含至少一种多异氰酸酯组分a)、多元醇组分b)、光引发剂c)和书写单体d),其特征在于权利要求1至8中任一项的至少一种化合物作为书写单体d)存在。

11.权利要求10的光敏聚合物制剂,其特征在于至少一种单官能氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯作为其他的书写单体存在。

12.权利要求10和11中任一项的光敏聚合物制剂,其特征在于所述多元醇组分为具有伯OH官能的二官能聚醚、聚酯或聚醚-聚酯嵌段共聚酯。

13.权利要求10至12中任一项的光敏聚合物制剂,其特征在于所述多异氰酸酯组分为具有伯NCO基团的脂族多异氰酸酯或预聚物。

14.权利要求10至13中任一项的光敏聚合物制剂,其特征在于所述光敏引发剂由吸收谱至少部分地覆盖400至800nm谱区的染料与至少一种合适的共引发剂的结合组成。

15.权利要求10至14中任一项的光敏聚合物制剂,其特征在于其另外包括增塑剂,优选通式(II)的增塑剂

                (II)

其中p为≥1并且≤8并且R1、R2、R3为氢和/或独立地直链、支链的、环的或杂环的未取代的或任选地杂原子取代的有机基团,其中优选R1、R2、R3中至少一个被至少一个氟原子取代并且更优选R1为具有至少一个氟原子的有机基团。

16.权利要求10至15任一项的光敏聚合物制剂用于制备全息介质的用途,所述全息介质特别是记录同轴、离轴、全幅、转移、白光、透射、Denisyuk、离轴反射或边光全息图以及全息立体图。

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