[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法有效
| 申请号： | 201180002384.5 | 申请日： | 2011-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN102473425A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 平川拓洋;平野康成;田本宏一;山口智行 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;C03C23/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 吴宗颐 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁盘 玻璃 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法具有玻璃基板的清洗工序，其特征在于，所述清洗工序具有使玻璃基板与包含过二硫酸盐的pH2～4的清洗液接触的处理。
2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述清洗液的所述过二硫酸盐的浓度为0.005mol/L～1mol/L。
3.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述过二硫酸盐为过二硫酸铵。
4.如权利要求1～3任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，将所述清洗液的pH设定为3～4。
5.如权利要求1～4任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，通过使所述清洗液和所述玻璃基板接触，除去所述玻璃基板上的金属系金属污染物。
6.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法包括除去玻璃基板上的金属系污染物质的清洗工序，其特征在于，所述清洗工序使用包含过二硫酸根离子的清洗液在酸性条件下进行清洗。
7.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法具有玻璃基板的清洗工序，其特征在于，所述清洗工序为了氧化并溶解玻璃基板上的金属系污染物质，使用包含过二硫酸根离子的清洗液进行。
8.如权利要求6或7所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，在所述清洗工序中，不损伤玻璃基板的表面粗糙度。
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