[实用新型]一种烧制高纯刚玉坩埚的装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及高纯度刚玉坩埚的制备技术领域，具体地说是一种烧制高纯刚玉坩埚的装置。

背景技术

在透明氧化铝瓷的生产中，要求AI₂O₃粉体纯度极高，AI₂O₃％≥99.99％。这样在窑中烧制时，原料在1200℃进行晶型转变，这需要一种承载AI₂O₃粉体的坩埚，该种坩埚通常要使用高纯度刚玉坩埚。这种高纯刚玉坩埚需要满足以下要求：(1)AI₂O₃％≥99.95％(2)使用温度在1200℃以上；(3)有较好的热振稳定性能；(4)1200℃高温烧成时对AI₂O₃粉体无污染。所以在制备这种高纯刚玉坩埚时对烧制条件就很苛刻。在试验阶段，我们对原料的选择和提纯方面做了大量的工作，但是刚玉坩埚的纯度仍未能满足客户使用要求。后来我们通过研究分析，发现原因可能处在烧制环节，所以需要对原有的烧制环节中的某些工艺和装置进行改进，在原料纯度不变的情况下，达到提高高纯度刚玉坩埚烧制成功率的目的。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种烧制高纯刚玉坩埚的装置，根据隔焰烧成法工艺进行制备装置，避免烧成过程燃烧产物对坩埚表面的污染，保证高纯度刚玉坩埚的纯度。

本实用新型解决其技术问题所采取的技术方案是：一种烧制高纯刚玉坩埚的装置，包括窑体和小车，所述窑体是烧制的主体，所述小车用于承载需要烧制的高纯刚玉坩埚，且烧制时，小车位于窑体的内部，其特征在于，在所述小车上的高纯刚玉坩埚外侧倒扣一匣钵，所述匣钵采用耐火材料制备。

在所述小车上表面上铺有一层垫砂。

本实用新型的有益效果是：之前的烧成工艺是火焰直接喷射到高纯度刚玉坩埚表面，火焰中含有杂质容易对高纯度刚玉坩埚表面造成不同程度的污染，本实用新型通过改变烧成工艺，采用隔焰烧成法，并制备隔离装置匣钵，避免了烧成过程燃烧产物对高纯度刚玉坩埚表面的污染，保证了高纯度刚玉坩埚的纯度。经检测和使用证明，改用本装置烧制的高纯度刚玉坩埚中的AI₂O₃％≥99.95，高纯度刚玉坩埚性能良好，满足了使用要求，具有很好的推广和使用价值。

附图说明

图1为原有烧制示意图；

图2为使用本实用新型烧制时的示意图；

图3为本实用新型结构示意图；图中箭头表示火焰的喷射方向；

图中：1窑体，2小车，3高纯刚玉坩埚，4匣钵。

具体实施方式

原有的装置如图1所示，包括窑体和小车，窑体1是烧制的主体，为现有技术，小车2用于承载需要烧制的高纯刚玉坩埚3，并在小车2上表面上铺有一层垫砂。且烧制时，将载有待烧制品的小车移动至窑体的内部，利用火焰向待烧制的高纯刚玉坩埚喷射火焰，烧制而成。所以在烧制的过程中，火焰中含有杂质容易对高纯度刚玉坩埚表面造成不同程度的污染，使得高纯度刚玉坩埚中达不到AI₂O₃％≥99.95％的要求。

改进之处在于，如图2、图3所示，在小车2上的高纯刚玉坩埚3外侧倒扣一匣钵4，匣钵4为开口的容器状，倒置，匣钵采用耐火材料制备，这样一来通过改变烧成工艺，采用隔焰烧成法，并制备隔离装置匣钵，避免了烧成过程燃烧产物对高纯度刚玉坩埚表面的污染，保证了高纯度刚玉坩埚的纯度。经检测和使用证明，改用本装置烧制的高纯度刚玉坩埚中的AI₂O₃％≥99.95。

除说明书所述的技术特征外，均为本专业技术人员的已知技术。