[实用新型]掩模板运输盒

说明书

技术领域

本实用新型涉及薄膜场效应晶体管TFT阵列制造领域，特别是指一种掩模板运输盒。

背景技术

TFT(Thin Film Transistor，薄膜场效应晶体管)阵列制造技术中的光刻工艺是通过光学成像的方法把掩模板(Mask)上的图案转移到玻璃基板或者半导体晶片表面的光刻胶上的过程，然后再通过显影、刻蚀、剥离等工艺步骤，最终在玻璃基板上形成所需的TFT阵列图型。掩模板是影响光刻性能的关键物品，如果掩模板出现问题，例如被损坏、有灰尘等情况，将直接影响到光刻工艺的质量，使生产过程不能正常进行，因此，光刻工艺对掩模板的洁净度要求很高，必须严格控制光刻工艺环境的洁净度。

通常，光刻工艺的掩模板都有专门的掩模板盒子来存放和运输。掩模盒的特征直接关系到掩模板的洁净程度。现有的掩模板盒子如图1所示，在使用状态下，掩模板必须竖立着放置在该掩模盒中。其中下盒体为主要的承载部件，下盒体的两侧壁中间有固定掩模板的凹槽1。由于掩模板上有光刻图案，从而使人可以拿捏的部分非常有限，并且掩模板的重量也很重。该结构在取放掩模板的时候非常不方便，需要两个人，一人一只手同时捏住掩模板的两个角，自上而下竖直取放掩模板。因此，当用现有掩模板来竖直取放掩模板的时候，或者因提捏的部分太大而磨损光刻图案，或者因提捏的部分太小而使掩模板掉落摔坏，人工操作比较费力。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种掩模板运输盒，能够方便地对掩模板进行取放。

为解决上述技术问题，本实用新型提供的技术方案如下：

一种掩模板运输盒，包括：盒体和盒盖，所述盒体和盒盖之间为可分离连接；

所述盒体具有相对的第一内壁和第二内壁；

在所述盒体的底面上沿着所述第一内壁和所述第二内壁分别设置有长条型的第一台阶结构；

所述第一台阶结构包括第一上台阶和第一下台阶，所述第一上台阶位于所述第一下台阶的外侧，所述第一下台阶形成掩模板的支撑面，所述支撑面和所述盒体的开口平行。

所述第一台阶结构的高度小于所述盒体的高度。

所述盒体和盒盖之间为活动连接。

所述盒体和所述盒盖通过连接阀连接，当所述盒盖展开时与所述盒体成一直线。

所述盒体为立方体，所述盒盖为立方体，所述第一台阶结构与所述第一内壁平行。

所述盒体还具有相对的第三内壁和第四内壁；在所述盒体内沿着所述第三内壁和所述第四内壁分别设置有长条型的第二台阶结构，所述第二台阶结构包括第二上台阶和第二下台阶，所述第二上台阶位于所述第二下台阶的外侧，所述第一台阶结构和所述第二台阶结构的高度一致；

所述第二台阶结构的两端与所述第一内壁和所述第二壁之间有预定宽度的缝隙；所述第一台阶结构的两端与所述第三内壁和所述第四内壁之间有预定宽度的缝隙；所述第一台阶结构和所述第二台阶结构之间有预定宽度的缝隙。

所述盒盖内设置有以所述连接阀为对称点、与所述第一台阶结构对称的第三台阶结构和与所述第二台阶结构对称的第四台阶结构。

所述盒盖上设置有至少一层隔层架，所述盒体和所述隔层架通过第一连接阀连接，所述隔层架和所述盒盖通过第二连接阀连接。

当所述隔层架为多层时，所述隔层架之间通过第三连接阀连接，所述盒体和所述隔层架中的最下一层隔层架通过第一连接阀连接，所述盒盖和所述隔层架中的最上一层隔层架通过第二连接阀连接。

所述隔层架包括：平板；所述平板上表面的四周上设置有上挡板；所述平板下表面的四周上设置有下挡板；所述上挡板形成的支撑面与所述盒盖的开口相适应；所述下挡板形成的支撑面与所述盒体的开口相适应；

所述平板具有相对的第一侧和第二侧以及相对的第三侧和第四侧；

所述平板的上表面沿着所述第一侧和第二侧分别设置有第五台阶结构；所述第五台阶结构包括第五上台阶和第五下台阶，所述第五上台阶位于所述第五下台阶的外侧；

所述平板的下表面沿着所述第一侧和第二侧分别设置有第六台阶结构；所述第六台阶结构包括第六上台阶和第六下台阶，所述第六上台阶位于所述第五下台阶的外侧；

所述平板的上表面沿着所述第三侧和第四侧分别设置有第七台阶结构；所述第七台阶结构包括第七上台阶和第七下台阶，所述第七上台阶位于所述第七下台阶的外侧；所述第五台阶结构和所述第七台阶的高度一致；