[实用新型]一种用于加工金属罐的中空金属圈和底壳的模具有效

专利信息
申请号: 201120314344.1 申请日: 2011-08-26
公开(公告)号: CN202239237U 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 李炳兴 申请(专利权)人: 苏州华源包装股份有限公司
主分类号: B21D37/10 分类号: B21D37/10;B21D51/26
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 孙仿卫;李艳
地址: 215236 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 加工 金属罐 中空 金属 模具
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种模具,尤其为一种用于加工金属罐的中空金属圈和底壳的模具。

背景技术

在生产金属包装容器所用的圈时,现在都是采用对金属薄钢板直接冲压成型。由于所需的圈都是中空的,在圈冲压成型后会形成与圈的内口径大小相同的圆形铁片。这些铁片虽再次利用率较高,但只能用手工操作方式,过程中浪费了空间、时间、人力投入等,效率低下。

发明内容

针对上述问题,本实用新型提供一种用于加工金属罐的中空金属圈和底壳的模具,可以在一次冲压中,完成圈的成型预弯工序,并同时将圈内铁片加工成金属包装容器的底,且二产品均符合质量要求。

为解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案为:一种用于加工金属罐的中空金属圈和底壳的模具,它包括上模和下模,下模的上表面上形成下模压面,所述下模压面包括用于加工中空金属圈的第一下模部、用于加工底壳的第二下模部和一用于截断中空金属圈和底壳的第一下模截断部,所述第二下模部位于第一下模部的外侧,所述上模的下表面形成上模压面,所述上模压面包括分别与第一下模部、第二下模部和第一下模截断部相对应设置的第一上模部、第二上模部和第一上模截断部。

优选地,所述下模压面上还包括用于将中空金属圈和底壳之间相截断的第二下模截断部,所述上模压面上包括与第二下模截断部相对应设置的第二上模截断部。

优选地,所述第一下模部呈凹凸型,所述第二下模部呈与所述第一下模部相对应的凸凹形。

优选地,所述第二下模部包括用于加工底壳底面的下模底面部和用于加工底壳外缘的下模外缘部,所述下模外缘部呈凸凹型,所述第二上模部包括与下模底面部和下模外缘部相对应设置的上模底面部和上模外缘部,所述上模外缘部呈凹凸形。

本实用新型采用以上结构,大大减少了公司在生产圈与底时的人力、物力等的投入,生产效率显著提高。

附图说明

附图1为本实用新型的金属罐的中空金属圈和底壳的结构剖视图。

附图2为本实用新型的下模结构示意图。

附图3为本实用新型的上模结构示意图。

以上附图中:1、上模;11、第一上模部;12、第二上模部;13、第一上模截断部;14、第二上模截断部;2、下模;21、第一下模部;22、第二下模部;23、第一下模截断部;24、第二下模截断部;3、中空金属圈;4、底壳;41、底面;42、外缘。

具体实施方式

下面结合附图1和3之一对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述,以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域的技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围作出更为清楚明确的界定。

一种用于加工金属罐的中空金属圈3和底壳4的模具,它包括上模1和下模2,下模2的上表面上形成下模2压面,所述下模2压面包括用于加工中空金属圈3的第一下模部21、用于加工底壳4的第二下模部22和一用于截断中空金属圈3和底壳4的第一下模截断部23,所述第二下模部22位于第一下模部21的外侧,所述上模1的下表面形成上模1压面,所述上模1压面包括分别与第一下模部21、第二下模部22和第一下模截断部23相对应设置的第一上模部11、第二上模部12和第一上模截断部13。

所述下模2压面上还包括用于将中空金属圈3和底壳4之间相截断的第二下模截断部24,所述上模1压面上包括与第二下模截断部24相对应设置的第二上模截断部14。

所述第一下模部21呈凹凸型,所述第二下模部22呈与所述第一下模部21相对应的凸凹形。

所述第二下模部22包括用于加工底壳4底面41的下模2底面41部和用于加工底壳4外缘42的下模2外缘42部,所述下模2外缘42部呈凸凹型,所述第二上模部12包括与下模2底面41部和下模2外缘42部相对应设置的上模1底面41部和上模1外缘42部,所述上模1外缘42部呈凹凸形。

本实用新型可以在一次冲压中,完成中空金属圈3的成型预弯工序,并同时将圈内铁片加工成金属包装容器的底壳4,且两产品均符合质量要求。

本实用新型的运用,大大减少了在生产中空金属圈3与底壳4时的人力、物力等的投入,生产效率得到显著提高。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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