[实用新型]一种MD一次鞋底有效
申请号: | 201120297342.6 | 申请日: | 2011-08-15 |
公开(公告)号: | CN202184221U | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
发明(设计)人: | 刘鹏;胡义文;孙兵;朱立勇;史小敏;萧彬 | 申请(专利权)人: | 福建省石狮市和兴塑胶有限公司 |
主分类号: | A43B13/04 | 分类号: | A43B13/04;A43B13/22 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯长明 |
地址: | 362700 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 md 一次 鞋底 | ||
技术领域
本实用新型涉及鞋底技术领域,更具体的涉及一种MD一次鞋底。
背景技术
随着人们生活水平的不断提高,人们对生活必需品的舒适性、美观性、实用性的追求也越来越明显。其中,人们对鞋子的舒适性、美观性及实用性的要求尤为严格。
鞋底对于鞋子的舒适性影响较大,目前,市场上较普遍存在一种MD一次鞋底。MD一次系指原料为EVA塑胶粒经一次射出成型。现有技术中该类鞋底包括上层和底层。
然而,现有技术中底层是通过粘接剂粘接于上层的,经长时间得穿着后,二者易分离,进而使得影响整鞋的质量。
因此,如何提供一种鞋底,能够有效提高上层和底层的连接可靠性,成为本领域技术人员所要解决的重要技术问题。
实用新型内容
为了解决上述技术问题,本实用新型提供了一种MD一次鞋底,其能够有效提高上层和底层的连接可靠性。
本实用新型提供的一种MD一次鞋底包括上层与底层,所述上层与所述底层为一体式结构。
优选地,所述底层的底面设有防滑纹理。
优选地,所述防滑纹理为贯穿于所述底层宽度方向的曲状凹槽。
优选地,所述防滑纹理为贯穿于所述鞋底宽度方向的长条状凹槽。
本实用新型提供的MD一次鞋底,包括上层与底层,且二者为一体式结构。需要说明的是,本实用新型提供的MD一次鞋底其上层与底层为一体式结构,系指其通过特殊的注塑设备注塑为一体式结构,而非通过粘结剂或其它连接装置连接于一起。故本实用新型提供的MD一次鞋底,其有效规避了因长时间穿着,而造成其上层与底层相分离的问题。此外,需要说明的是,MD一次鞋底的上层和底层采用发泡工艺,可使得二者具有较轻的质量,其加工出来的鞋子具有较好的轻便性。
本实用新型的优选方案中,所述底层的底面设有防滑纹理。如此设置,本实用新型提供的MD一次鞋底具有较好的防滑性能,在光滑的路面上行走时,可有效规避因鞋底与地面之间的摩擦力小,而滑倒的问题。
附图说明
图1为本实用新型具体实施方式中鞋底主视结构示意图;
图2为本实用新型具体实施方式中鞋底底面结构示意图。
具体实施方式
本实用新型提供了一种MD一次鞋底,其能够有效提高MD中层与MD外围的连接可靠性。
下面将结合本实用新型实施方式中的附图,对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施方式仅仅是本实用新型一部分实施方式,而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式,都属于本实用新型保护的范围。
请参考图1和图2,图1为本实用新型具体实施方式中鞋底主视结构示意图;图2为本实用新型具体实施方式中鞋底底面结构示意图。
本具体实施方式所提供的MD一次鞋底,包括上层11与底层12,且二者为一体式结构。
需要说明的是,本具体实施方式所提供的MD一次鞋底其上层11与底层12为一体式结构,系指其通过特殊的注塑设备注塑为一体式结构,而非通过粘结剂或其它连接装置连接于一起。故本实用新型提供的MD一次鞋底,其有效规避了因长时间穿着,而造成其上层11与底层12相分离的问题。
此外,需要说明的是,MD一次鞋底的上层11和底层12采用发泡工艺,可使得二者具有较轻的质量,其加工出来的鞋子具有较好的轻便性。
本具体实施方式的优选方案中,底层12的底面设有防滑纹理121。如此设置,本实用新型提供的MD一次鞋底具有较好的防滑性能,在光滑的路面上行走时,可有效规避因鞋底与地面之间的摩擦力小,而滑倒的问题。
需要说明的是,上述防滑纹理121可具体下述设置。防滑纹理121可具体为贯穿于所述底层12宽度方向的曲状凹槽。当然,也可为其它形状结构,比如,为贯穿于鞋底宽度方向的长条状凹槽或者曲状凹槽与长条状凹槽相结合的防滑纹理121。
如此设置,本具体实施方式所提供的MD一次鞋底具有较好的防滑性能。
以上对本实用新型所提供的一种MD一次鞋底进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述,以上实施方式的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以对本实用新型进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。
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