[实用新型]适应介质流动的喷嘴有效

专利信息
申请号: 201120284624.2 申请日: 2011-08-05
公开(公告)号: CN202180019U 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 马德胜;秦积舜;陈兴隆;李实;张可 申请(专利权)人: 中国石油天然气股份有限公司
主分类号: B05B9/04 分类号: B05B9/04;B05B12/10
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李景辉
地址: 100007 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 适应 介质 流动 喷嘴
【权利要求书】:

1.一种适应介质流动的喷嘴,其特征在于,所述适应介质流动的喷嘴包括:

管柱体,所述管柱体具有内腔,所述内腔位于容纳介质的融化容器的下方并与容纳介质的融化容器连接,所述内腔中设有密封孔;

密封所述密封孔的密封塞,可活动的设置在所述密封孔的下方并位于所述内腔中;

喷气管,从所述管柱体的侧壁穿入到所述内腔中并与设置在所述管柱体外的气源装置连接,所述喷气管的出口端具有承托所述密封塞的端面以及与所述端面连接的喷气空间,所述喷气空间与所述出口端位于所述密封塞的下方的所述内腔中;

陶瓷管,连接在所述喷气管的下方并位于所述内腔中,所述陶瓷管具有喷出口,所述喷出口与所述内腔连通,在非喷射状态,所述喷出口的口径小于所述介质流出的最小口径。

2.如权利要求1所述的适应介质流动的喷嘴,其特征在于,所述内腔中设有封堵挡板,所述密封孔设置在封堵挡板中。

3.如权利要求1所述的适应介质流动的喷嘴,其特征在于,所述内腔中设有对所述陶瓷管定位的定位挡圈,所述定位挡圈位于所述内腔中的所述喷气管之下并且所述定位挡圈具有连通所述喷出口与所述内腔的通孔,所述陶瓷管位于所述定位挡圈之下。

4.如权利要求3所述的适应介质流动的喷嘴,其特征在于,所述适应介质流动的喷嘴还包括:连接在所述管柱体底部的端盖,所述陶瓷管位于所述端盖与所述定位挡圈之间。

5.如权利要求1所述的适应介质流动的喷嘴,其特征在于,所述喷气管包括与所述气源装置连接的入口管以及连接在所述入口管端部的喇叭口,所述气源装置为恒压气源泵。

6.如权利要求5所述的适应介质流动的喷嘴,其特征在于,所述密封塞包括导入所述密封孔的导入段,与所述导入段连接的密封段。

7.如权利要求6所述的适应介质流动的喷嘴,其特征在于,所述导入段为锥形或锥台形,所述密封段为圆柱形,所述导入段的直径小于所述密封段的直径。

8.如权利要求6所述的适应介质流动的喷嘴,其特征在于,所述密封塞还包括与所述密封段连接的承托段,所述密封段位于所述承托段与所述导入段之间,所述承托段的底端具有卡住所述喇叭口外沿的承托凹面,所述承托凹面为圆形,所述承托凹面的直径大于所述密封段的直径。

9.如权利要求8所述的适应介质流动的喷嘴,其特征在于,所述承托凹面的边缘具有倒角。

10.如权利要求9所述的适应介质流动的喷嘴,其特征在于,所述倒角为45度,当所述密封塞静置在所述喇叭口上时,所述导入段进入所述密封孔内1mm。

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