[实用新型]涂布装置有效
| 申请号: | 201120175006.4 | 申请日: | 2011-05-27 |
| 公开(公告)号: | CN202057959U | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
| 发明(设计)人: | 战戈;张琨鹏;焦宇 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16 |
| 代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及液晶面板制造领域,尤其涉及一种光刻胶用涂布装置。
背景技术
在TFT-LCD(薄膜场效应管液晶显示器)面板加工过程当中,主要包括镀膜、涂胶、显影及刻蚀等几道工艺,从而得到相应的TFT图案。其中,在MASK工艺当中,需在镀膜完成之后的基板之上先涂布感光材料,之后进行曝光,再将曝光后的基板进行显影。这其中,涂布感光材料部分又包括预涂胶、高速甩胶、低压干燥和端面清洁四个单元。
对于涂胶过程而言,设备使用率和生产节拍是影响涂胶设备产能的重要指标。其中,设备使用率受生产管理,设备维护,备件库存等因素影响,存在上限。
涂胶过程是将感光材料线性涂布在基板上。传统的涂胶方式是以一张基板为周期,喷涂模块从基板一端运动到另一端,同时将感光材料涂布在基板上,然后返回到初始位置的清洗模块中进行化学品处理,从而保证其下次涂布均匀性。其中,喷涂模块在完成一张基板的感光材料涂布之后,从基板一端返回到另一端初始位置的清洗模块中的动作严格意义上属于无效动作。因此,现有技术增加了涂胶单元的生产节拍,降低了生产效率。
实用新型内容
本实用新型的实施例提供一种涂布装置,以解决涂布过程生产节拍大,生产效率低的问题。
为达到上述目的,本实用新型的实施例采用如下技术方案:
一种涂布装置,包括:喷涂模块和清洗模块,所述清洗模块包括第一清洗子模块和第二清洗子模块,其中,所述第一清洗子模块、第二清洗子模块分别位于待喷涂基板相对应的两端之外。
所述第一清洗子模块、第二清洗子模块平行设置。
所述喷涂模块具有喷嘴,所述第一清洗子模块、第二清洗子模块分别包括:
基座;
清洁槽,位于所述基座上,其上开设有沟槽,该沟槽对应所述喷涂模块的喷嘴。
所述喷涂模块为V字型结构并于V字型结构下端形成有狭缝形的所述喷嘴。
所述清洁槽为V字型结构。
本实用新型实施例提供的涂布装置,包括喷涂模块和清洗模块,其中,该清洗模块包括第一清洗子模块和第二清洗子模块,分别位于待喷涂基板相对应的两端之外。这样,喷涂模块从第一清洗子模块中出来进行涂布后可以直接进入位于基板另一端的第二清洗子模块中进行清洗。在保证涂布品质的同时,节省了喷涂模块涂布后返回初始位置所需的时间,因此,减小了涂布过程的生产节拍,提高了生产效率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例提供的涂布装置的结构示意图;
图2为本实用新型实施例提供的清洗模块的结构示意图;
图3为本实用新型实施例提供的涂布装置的剖视图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型实施例提供的涂布装置如图1所示,图1是该涂布装置的结构示意图。包括喷涂模块11和清洗模块12,喷涂模块11具有喷嘴,清洗模块包括第一清洗子模块121和第二清洗子模块122,其中,该第一清洗子模块121、第二清洗子模块122分别位于待喷涂基板13相对应的两端之外。
进一步地,如图1所示,该第一清洗子模块121、第二清洗子模块122可以平行设置在待喷涂基板13的相对边的旁边。
这样一来,喷涂模块11从第一清洗子模块121中出来进行涂布作业后可以直接进入位于基板13另一端的第二清洗子模块122中进行清洗。在保证涂布品质的同时,节省了喷涂模块涂布后返回初始位置所需的时间,因此,减小了涂布过程的生产节拍,提高了生产效率。
其中,喷涂模块11的可以是多种形状,同样的,清洗模块12的形状也可以有多种,以能对应清洗喷涂模块11的喷嘴即可。
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