[实用新型]防止低聚物产生的聚酯基膜有效
申请号: | 201120124338.X | 申请日: | 2011-04-25 |
公开(公告)号: | CN202029474U | 公开(公告)日: | 2011-11-09 |
发明(设计)人: | 王国明;董兴广;张玲;周慧芝 | 申请(专利权)人: | 富维薄膜(山东)有限公司 |
主分类号: | B32B27/08 | 分类号: | B32B27/08;B32B27/18;B32B27/28;B32B27/36;B60J1/20 |
代理公司: | 潍坊正信专利事务所 37216 | 代理人: | 赵玉峰 |
地址: | 261061 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防止 物产 聚酯 | ||
1.防止低聚物产生的聚酯基膜,其特征在于:所述聚酯基膜包括多层共挤复合层,所述多层共挤复合层的上、下表面上分别涂布有聚酯改性丙烯酸酯上表层和聚酯改性丙烯酸酯下表层。
2.如权利要求1所述的防止低聚物产生的聚酯基膜,其特征在于:所述多层共挤复合层包括聚酯层,共挤复合于所述聚酯层两表面上的无机颗粒聚酯上复合层和无机颗粒聚酯下复合层。
3.如权利要求1所述的防止低聚物产生的聚酯基膜,其特征在于:所述聚酯改性丙烯酸酯层中均匀分布有无机添加剂颗粒。
4.如权利要求2所述的防止低聚物产生的聚酯基膜,其特征在于:所述无机颗粒为5~20nm的无机物颗粒。
5.如权利要求3所述的防止低聚物产生的聚酯基膜,其特征在于:所述无机添加剂颗粒为10~50nm的无机添加剂颗粒。
6.如权利要求2所述的防止低聚物产生的聚酯基膜,其特征在于:所述聚酯基膜的厚度为12~36um,所述无机颗粒聚酯上复合层和无机颗粒聚酯下复合层的厚度分别为2~4um,所述聚酯改性丙烯酸酯上表层和聚酯改性丙烯酸酯下表层的厚度分别为0.05~0.6um。
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