[实用新型]一种滤光片有效

专利信息
申请号: 201120089945.7 申请日: 2011-03-30
公开(公告)号: CN202126516U 公开(公告)日: 2012-01-25
发明(设计)人: 齐永莲;薛建设 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G02F1/1335
代理公司: 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 代理人: 张颖玲;周义刚
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 滤光
【权利要求书】:

1.一种滤光片,其特征在于,该滤光片的基板表面上设置有凹凸结构,使基板上的黑色挡墙中间下凹、边缘凸起;在黑色挡墙形成的三个间隔的次像素区中,分别包括依次排列的第一滤光区、第二滤光区、第三滤光区。

2.根据权利要求1所述的滤光片,其特征在于,所述凹凸结构包括所述滤光片基板表面上的微米级凸起撑起物,在形成有凸起的基板上形成黑色挡墙。

3.根据权利要求2所述的滤光片,其特征在于,所述凸起撑起物位于黑色挡墙的边缘部位。

4.根据权利要求2所述的滤光片,其特征在于,所述凸起撑起物为柱状、或者锥状。

5.根据权利要求2至4任一项所述的滤光片,其特征在于,所述凸起撑起物的宽度为2微米,高度为500纳米。

6.根据权利要求5所述的滤光片,其特征在于,所述凸起撑起物的材料为黑色亲墨类树脂,或固化的黑色挡墙材料。

7.根据权利要求1所述的滤光片,其特征在于,所述凹凸结构包括所述基板表面经过刻蚀所形成的凹槽,在刻蚀有凹槽的基板上形成黑色挡墙。

8.根据权利要求7所述的滤光片,其特征在于,刻蚀在基板上的所述凹槽位于黑色挡墙的中间部位。

9.根据权利要求7或8所述的滤光片,其特征在于,所述凹槽的宽度为16微米,深度为500纳米。

10.根据权利要求2、3、4、7或8所述的滤光片,其特征在于,所述第一滤光区、第二滤光区、第三滤光区彼此不重叠,且在同一工序中形成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120089945.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top