[实用新型]一种真空喷射立式降水装置有效
申请号: | 201120004552.1 | 申请日: | 2011-01-10 |
公开(公告)号: | CN201962686U | 公开(公告)日: | 2011-09-07 |
发明(设计)人: | 张建民;杨明锋;马连科;刘恩祥;黄延年 | 申请(专利权)人: | 山西华晋岩土工程勘察有限公司;中化二建集团有限公司 |
主分类号: | E02D19/10 | 分类号: | E02D19/10;E02D19/20 |
代理公司: | 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 | 代理人: | 卢茂春 |
地址: | 030021 山西*** | 国省代码: | 山西;14 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空 喷射 立式 降水 装置 | ||
1.一种真空喷射立式降水装置,其特征是它包括罐体、潜水泵、射流管、气水分离器、稳流板、排水泵、自动水位控制器,罐体的内腔设有潜水泵、气水分离器、稳流板、排水泵、自动水位控制器,罐体上设有过滤槽、注水口、排水口、溢流口,罐体外设有射流管,射流管通过管道连接潜水泵、过滤槽、气水分离器,排水泵的输出管道伸出罐体外,罐体上的溢流口与自动水位控制器相通。
2.根据权利要求1所述的一种真空喷射立式降水装置,其特征是所述的稳流板由水平稳流板和竖直稳流板组成,稳流板焊接在罐体上,稳流板为钢板上设有密集小孔的结构。
3.根据权利要求2所述的一种真空喷射立式降水装置,其特征是所述的水平稳流板设置在在距离罐体底部2/5罐体高度处。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山西华晋岩土工程勘察有限公司;中化二建集团有限公司,未经山西华晋岩土工程勘察有限公司;中化二建集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201120004552.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:带水力冲刷助沉及加固地基设置的水下杯形基础
- 下一篇:可调砂桩架