[发明专利]一种西瓜陈种子的处理方法无效

专利信息
申请号: 201110450763.2 申请日: 2011-12-29
公开(公告)号: CN102511219A 公开(公告)日: 2012-06-27
发明(设计)人: 李应超;蒋永华 申请(专利权)人: 上海博琛生物科技有限公司
主分类号: A01C1/00 分类号: A01C1/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201203 上海市浦东新区张江*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 西瓜 种子 处理 方法
【说明书】:

 

技术领域

发明属于西瓜栽培技术领域,特别涉及一种西瓜陈种子的处理方法。

背景技术

通常条件下,人们将收获后贮藏一年以上的种子称之为陈种子。用陈种子播种,往往造成幼苗畸形,发育异常,植株矮化,生育期缩短,抗病性减弱,以及产量下降等不利情况,这主要是陈种子的胚部细胞在长期贮藏条件下的影响,发生了生理变化及遗传性方而的变化,如生长激素、各种酶及维生素的生理活性下降,甚至发生染色体畸变,以致严重影响种子的生命力、萌发力、发芽力和生长力,改变了原来的优良种性。

随着西瓜种植面积的不断扩大及良种推广的需要,现代化、工厂化、集约化育苗已经成为一种发展趋势。在西瓜工厂化育苗生产中,由于天气、茬口安排、销售不畅等外在因素影响,经常会造成生产计划不能顺利实施,出现西瓜种子大量积压情况,受保存条件所限,待第二年再使用时西瓜陈种子出现萌发力弱、发芽率低、幼苗长势弱等问题,严重阻碍了西瓜优良品种推广及标准化育苗生产。因此,研究促进西瓜陈种子萌发有效方法对西瓜陈种子高效利用、西瓜工厂化育苗生产具有显著价值。

发明内容

本发明的目的在于提供一种西瓜陈种子的处理方法,有效解决西瓜陈种子萌发力弱、发芽率低、幼苗生长缓慢问题。

为实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:

   一种西瓜陈种子的处理方法,包括如下步骤:

    ①清洗:10 - 20℃清水洗涤西瓜陈种子三遍;

    ②干燥:自然通风干燥西瓜陈种子 24h – 48h;

    ③低温处理:干燥后的西瓜陈种子在0 – 2℃处理72h;

    ④He-Ne激光辐照处理:低温处理后的西瓜陈种子经He-Ne激光辐照处理30-60S,辐射剂量为37.6J/cm2、波长632.8nm。

  所述西瓜陈种子是收获后贮藏2~3年的西瓜种子。

采用本发明所述的上述方法能够促进西瓜陈种子有效萌发,并且适用于大量样品的处理。本发明具有操作简单、处理量大、易于人工掌握等特点,可有效解决西瓜陈种子萌发力弱、发芽率低、幼苗生长缓慢问题,对西瓜陈种子高效利用以及西瓜工厂化育苗生产具有重要意义。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明作进一步的具体描述:

实施例1

    ①西瓜陈种子:西瓜品种为“早春红玉”,收获后保存时间为2年。

    ②预处理:10℃清水清洗3次,放在室内自然通风干燥24h。

    ③低温处理:干燥后的西瓜陈种子在 2℃处理72h;

④He-Ne激光辐照处理:低温处理后的西瓜陈种子经He-Ne激光辐照处理30S,辐射剂量为37.6J/cm2、波长632.8nm。

⑤测定结果:通过本发明处理后“早春红玉” 二年陈种子发芽率达到了95.7%,比未处理对照组提高29.8%,苗高、根长也分别比未处理对照组提高了63.1%、103.4%,与未处理对照组比较,三者差异均达到极显著水平。

实施例2

①西瓜陈种子:西瓜品种为“郑抗无籽3号”,收获后保存时间为3年。

    ②预处理:15℃清水清洗3次,放在室内自然通风干燥48h。

    ③低温处理:干燥后的西瓜陈种子在 0℃处理72h;

④He-Ne激光辐照处理:低温处理后的西瓜陈种子经He-Ne激光辐照处理60S,辐射剂量为37.6J/cm2、波长632.8nm。

⑤测定结果:通过本发明处理后“郑抗无籽3号” 三年陈种子发芽率达到了83.1%,比未处理对照组提高47.8%,苗高、根长也分别比未处理对照组提高了75.9%、93.2%,与未处理对照组比较,三者差异均达到极显著水平。

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