[发明专利]除抛光膏粉剂型超声波清洗剂及制备方法无效

专利信息
申请号: 201110450103.4 申请日: 2011-12-29
公开(公告)号: CN102586790A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 潘德顺;张礼让;李佳琪 申请(专利权)人: 大连三达奥克化学股份有限公司
主分类号: C23G1/19 分类号: C23G1/19;C23G1/14
代理公司: 大连非凡专利事务所 21220 代理人: 闪红霞
地址: 116000 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 抛光 粉剂 超声波 洗剂 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种除抛光膏粉剂型超声波清洗剂,其特征在于所用原料及质量百分比如下:

                 氢氧化钾                                                        1~3%

                 碳酸钠                                                            10~40%

                 磷酸氢二钠                                                    10~36%

                 三聚磷酸钠                                                    1~10%

                 亚硝酸钠                                                        1~10%

                 除蜡水专用表面活性剂                                1~8%

                 常用喷淋脱脂专用无泡表面活性剂            1~3%

                 NP-6                                                                1~3%

                 渗透剂JFC                                                     0.5~5%

                 有机硅消泡剂                                                1~4%。

2.一种如权利要求1所述的除抛光膏粉剂型超声波清洗剂的制备方法,其特征在于按如下步骤进行:开动粉体制作搅拌器,按照粉体制作搅拌的操作规程,将计算称量的碳酸钠、磷酸氢二钠、三聚磷酸钠、亚硝酸钠、氢氧化钾依次徐徐加入到搅拌器中,边加入边搅拌,当固体搅拌均匀后,再将计算称量的除蜡水专用表面活性剂、常用喷淋脱脂专用无泡表面活性剂、NP-6、渗透剂JFC、有机硅消泡剂依次徐徐加到搅拌器中,直到充分搅拌均匀为止,放料包装。

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