[发明专利]一种磁控管及等离子体加工设备有效

专利信息
申请号: 201110448612.3 申请日: 2011-12-26
公开(公告)号: CN103177918A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 耿波;赵梦欣;刘旭;王厚工;丁培军 申请(专利权)人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
主分类号: H01J25/50 分类号: H01J25/50;H01J23/02;H01J37/32
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;张天舒
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁控管 等离子体 加工 设备
【权利要求书】:

1.一种磁控管,包括极性相反的内磁极和外磁极,所述内磁极与所述外磁极相互不接触地嵌套在一起,其特征在于,所述内磁极和外磁极在其径向截面上的形状均为螺旋线。

2.根据权利要求1所述的磁控管,其特征在于,所述内磁极和外磁极在其径向截面上的形状均满足公式(1),

θ=r-arctan(r)     (1)

式中,θ表示距离螺旋线起始点的弧度;

      r表示距离螺旋线中心点的距离。

3.根据权利要求2所述的磁控管,其特征在于,所述内磁极包括内磁极本体和设置在所述内磁极本体上的多个磁铁,所述磁铁沿所述内磁极本体的弧线排列设置;所述外磁极包括外磁极本体和设置在所述外磁极本体上的多个磁铁,所述磁铁沿所述外磁极本体的弧线排列设置。

4.根据权利要求3所述的磁控管,其特征在于,设置在所述内磁极本体上的所述磁铁沿所述内磁极本体的弧线均匀分布;设置在所述外磁极本体上的所述磁铁沿所述外磁极本体的弧线均匀分布。

5.根据权利要求3或4所述的磁控管,其特征在于,所述磁铁为柱状的磁铁,所述磁铁镶嵌在所述内磁极本体和所述外磁极本体内。

6.根据权利要求3或4所述的磁控管,其特征在于,在所述外磁极的径向方向上,所述外磁极本体的内端部的宽度大于所述外磁极本体的外端部的宽度;或者在所述内磁极的径向方向上,所述内磁极本体的内端部的宽度大于所述内磁极本体的外端部的宽度。

7.根据权利要求2所述的磁控管,其特征在于,在所述外磁极径向的截面上,所述外磁极的外端部闭合,以使所述内磁极嵌套在所述外磁极内。

8.根据权利要求2所述的磁控管,其特征在于,磁控管的旋转轴为所述外磁极的对称轴或所述外磁极的内端部所在的直线。

9.根据权利要求2所述的磁控管,其特征在于,所述外磁极和所述内磁极的间距为0.5~1.5英寸。

10.根据权利要求2所述的磁控管,其特征在于,所述外磁极和所述内磁极的间距根据实际靶材腐蚀结果进行调整。

11.一种等离子体加工设备,包括反应腔室、靶材、磁控管以及驱动所述磁控管转动的驱动部件,所述靶材设置在所述反应腔室的顶端,所述磁控管设置在所述靶材的上方,在所述驱动部件的驱动下所述磁控管在所述靶材的表面旋转扫描,其特征在于,所述磁控管采用权利要求1-10任意一项所述的磁控管。

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