[发明专利]一种高吸收率辐射吸收腔无效
| 申请号： | 201110439109.1 | 申请日： | 2011-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN102538958A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 方伟;方茜茜;杨东军;王玉鹏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G01J1/04 | 分类号： | G01J1/04 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人： | 陶尊新 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 吸收率 辐射 吸收 | ||
【权利要求书】：
1.一种高吸收率辐射吸收腔，其特征是，该吸收腔包括腔入射口径(3)、正圆锥面(4)和与圆锥母线夹角为β的斜底面(5)，腔入射口径(3)位于圆锥体(6)的细端，并且入射口径(3)所在平面与圆锥体(6)的轴线垂直；吸收腔内壁涂有纯镜面反射的黑涂层(7)，所述β的角度值为30°。
2.根据权利要求1所述的一种高吸收率辐射吸收腔，其特征在于，所述吸收腔的腔体材料为OFHC铜。
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