[发明专利]双刻痕线防伪瓶盖有效

专利信息
申请号: 201110394958.X 申请日: 2011-12-02
公开(公告)号: CN102514807A 公开(公告)日: 2012-06-27
发明(设计)人: 曹俊峰;刘骇浪;白洁;柳晓军 申请(专利权)人: 泸州海普制盖有限公司
主分类号: B65D41/32 分类号: B65D41/32;B65D55/08
代理公司: 北京双收知识产权代理有限公司 11241 代理人: 吴杰;解政文
地址: 646314 四川省泸*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 刻痕 防伪 瓶盖
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种容器密闭装置,特别是涉及一种用于提高防伪效果的双刻痕线防伪瓶盖。

背景技术

在现有技术中,带有刻痕线瓶盖是一种非常常见的用于密封容器的装置,瓶盖上的刻痕线将瓶盖分为上、下两个套筒,通过转动上套筒使刻痕线断裂,从而可以打开容器取出内容物。然而,由于刻痕线断裂后的可视性变化并不明显,当再次将上套筒盖在容器上时,很难区分该容器是否被打开过,甚至更有不法分子在容器内填充伪劣产品,将上套筒再次密封在容器上,利用粘接、点焊的方式将已断裂的刻痕线复原,用此方法以伪劣产品冒充正规产品欺骗消费者。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种结构简单,初次打开后可视性变化明显的双刻痕线防伪瓶盖。

本发明双刻痕线防伪瓶盖,包括上套筒和下套筒,所述上套筒和下套筒之间通过上刻痕线相连接,其中所述上刻痕线下方平行设置有下刻痕线,上刻痕线与下刻痕线之间构成断裂带。

本发明双刻痕线防伪瓶盖,其中所述上刻痕线由交叉排列的若干上切口和上连点构成,所述下刻痕线由交叉排列的若干下切口和下连点构成。

本发明双刻痕线防伪瓶盖,其中所述上连点与下切口纵向相对应,所述下连点与上切口纵向相对应。

本发明双刻痕线防伪瓶盖,其中所述上连点与下连点在纵向上的投影部分重合。

本发明双刻痕线防伪瓶盖,其中所述上刻痕线与下刻痕线之间的断裂带上开设有若干纵向切口。

本发明双刻痕线防伪瓶盖,其中所述纵向切口包括若干第一纵向切口,所述第一纵向切口的上下两端分别垂直指向上连点和下连点。

本发明双刻痕线防伪瓶盖,其中所述第一纵向切口的上下两端分别延伸至上连点和下连点上。

本发明双刻痕线防伪瓶盖,其中所述纵向切口包括若干第二纵向切口和第三纵向切口,所述第二纵向切口的上端与上切口相连通,所述第三纵向切口的下端与下切口相连通。

本发明双刻痕线防伪瓶盖,其中所述第一纵向切口的下端与其右侧的下切口相连通。

本发明双刻痕线防伪瓶盖,其中所述第一纵向切口的上端与其左侧的上切口相连通。

本发明双刻痕线防伪瓶盖,其中所述上套筒和下套筒由金属材料或塑料材料制成。

本发明双刻痕线防伪瓶盖,其中所述金属材料为铝。

本发明双刻痕线防伪瓶盖与现有技术不同之处在于本发明双刻痕线防伪瓶盖的上套筒和下套筒之间设置有两条刻痕线,当瓶盖被初次打开时,两条刻痕线之间的断裂带受到上、下套筒相反方向的剪切力的情况下发生断裂,从而使断裂带从瓶盖上脱离或者发生变形,如果断裂带脱离,当瓶盖被再次密封时,上、下套筒之间存在一条断裂带留下的间隙,并且由于间隙的存在使上、下套筒无法被再次连接,因此能够提醒使用者该容器已被打开过;如果断裂带变形留在下套筒上,当瓶盖被再次密封时,上、下套筒之间存留了一条明显变形且无法恢复的断裂带,并且无法与上套筒再次连接,因此也能够提醒使用者该容器已被打开过。

本发明双刻痕线防伪瓶盖中断裂带上开设的纵向切口是为了使断裂带更容易断裂、变形。

下面结合附图对本发明的双刻痕线防伪瓶盖作进一步说明。

附图说明

图1为本发明双刻痕线防伪瓶盖第一种实施方式的主视图;

图2为本发明双刻痕线防伪瓶盖第二种实施方式的局部主视图;

图3为本发明双刻痕线防伪瓶盖第三种实施方式的局部主视图;

图4为本发明双刻痕线防伪瓶盖第四种实施方式的局部主视图;

图5为本发明双刻痕线防伪瓶盖第五种实施方式的局部主视图。

具体实施方式

本发明双刻痕线防伪瓶盖的第一种实施方式如图1所示,包括铝质的上套筒1和下套筒2,上套筒1和下套筒2之间通过平行的上刻痕线和下刻痕线相连接,上刻痕线与下刻痕线之间构成断裂带3。上刻痕线由交叉排列的若干上切口4和上连点5构成,下刻痕线由交叉排列的若干下切口6和下连点7构成。上连点5与下切口6纵向相对应,下连点7与上切口4纵向相对应。

本发明双刻痕线防伪瓶盖的第二、三、四和五种实施方式与第一种实施方式的区别在于上刻痕线与下刻痕线之间的断裂带3上开设有若干纵向切口。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于泸州海普制盖有限公司,未经泸州海普制盖有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110394958.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top