[发明专利]一种金属表面处理工艺

权利要求书

1.一种金属表面处理工艺，其特征在于：包括以下工艺步骤：

（a）表面清洁：将待处理的金属基体进行表面清洁，除去金属基体表面的附着物；

（b）喷涂釉层：用喷枪或喷雾器将釉料雾化喷到金属基体的表面，形成釉层；

（c）烘烤固化：将喷涂釉层的金属基体置于烘箱中烘烤，使釉层固化； 

（d）二次清洗：将喷涂釉层的金属基体进行二次清洗；

（e）PVD镀膜：将喷涂釉层的金属基体进行PVD镀膜，在釉层的表面形成膜层，制得金属基体成品。

2.根据权利要求1所述的一种金属表面处理工艺，其特征在于：所述步骤（a）表面清洁具体为：将金属基体进行抛光处理、磨砂处理、喷砂处理、磨光处理中的一种或者一种以上的混合膜层的处理，然后进行超声波清洗，除去金属基体表面的油、蜡及氧化层。

3.根据权利要求1所述的一种金属表面处理工艺，其特征在于：所述步骤（b）喷涂釉层具体为：在万级无尘室中，用静电喷枪将釉料雾化喷到金属基体的表面，形成釉层。

4.根据权利要求1所述的一种金属表面处理工艺，其特征在于：所述步骤（b）喷涂釉层中，釉层的厚度为≥20μm。

5.根据权利要求4所述的一种金属表面处理工艺，其特征在于：所述步骤（b）喷涂釉层中，釉层的厚度为20μm~100μm。

6.根据权利要求1所述的一种金属表面处理工艺，其特征在于：所述步骤（c）烘烤固化中，烘箱的温度为600℃～1000℃，烘烤的时间为3分钟～1小时。

7.根据权利要求1所述的一种金属表面处理工艺，其特征在于：所述步骤（e）PVD镀膜中，PVD镀膜具体为真空蒸发镀膜、真空离子镀膜或者真空溅射镀膜中的一种。

8.根据权利要求1所述的一种金属表面处理工艺，其特征在于：所述步骤（e）PVD镀膜中，膜层的厚度为0.3μm~1μm。

9.根据权利要求1所述的一种金属表面处理工艺，其特征在于：所述步骤（e）PVD镀膜中，膜层为金属膜层、氧化物膜层、氮化物膜层或者碳化物膜层中的任意一种或者一种以上的混合膜层。

10.一种应用权利要求1~9任意一项所述的金属表面处理工艺制得的金属基体成品。