[发明专利]线切割晶体作图定向切割法有效

专利信息
申请号: 201110389561.1 申请日: 2011-11-30
公开(公告)号: CN102490277A 公开(公告)日: 2012-06-13
发明(设计)人: 陈屹立;荆旭华 申请(专利权)人: 东方电气集团峨嵋半导体材料有限公司
主分类号: B28D5/04 分类号: B28D5/04
代理公司: 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 代理人: 钱成岑;吴彦峰
地址: 614200 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 切割 晶体 作图 定向
【说明书】:

技术领域

发明属于晶体加工领域,尤其涉及定向切割方法。

背景技术

线切割定向与内圆切割定向不同,内圆切割定向可在垂直、水平两个方向进行两维调节,而线切割定向则只能在水平方进行调节,且不可切下头片之后复测,尤其是对晶向要求比较高的晶体,极易产生错误和偏差,而晶向偏离超出要求将导致整根晶体报废。为此,线切割机厂家为每台线切割机配备了专用的定向及调节设备(价格高达30万美元左右),在晶体上机时对晶体晶向偏离度进行测量及调整。由于此配套定向切割装置费用极高,能否用现有的独立定向设备来实现晶体在线切割机上的定向切割,而且可以达到多台线切割机和内圆切割机共用一套定向设备,就成了急待解决的问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是:针对现有技术存在的问题,提出一种利用现有X射线衍射定向仪实现多台线切割机和内圆切割机共用一套定向设备的定向切割方法,大大减少设备费用。

本发明目的通过下述技术方案来实现:

一种线切割晶体作图定向切割法,步骤依次包括:

A)在晶体端面作任意两条过中心的垂直交叉直线X轴与Y轴,通过X射线衍射仪分别测出两条轴线方向上的晶向偏离度;

B)采用分量合成方法在晶体端面作出晶体总的晶向偏离方向,偏离角度值为S=                                               ;

C)作一条过中心且与总的晶向偏离方向垂直的直线,以此直线为粘接轴Z,并确定总的晶向偏离方向相对粘接轴Z的左右偏离方向;

D) 设一水平直线为标准线,保持粘接轴Z竖直方向,且晶体中轴线按照上述左右偏离方向向标准线左/右侧偏转,调整晶体中轴线与标准线水平夹角为S,固定晶体并按标准线方向上机切割。

作为优选方式,所述D步具体为:首先将晶体按粘接轴Z方向垂直粘接在长方体切透层上,晶体中轴线与切透层长边平行,然后在长方体金属托板顶端以其长边为标准线用角度仪按晶体偏离方向量出偏离度S,画一直线标记,再将粘接好的晶体其切透层长边沿此直线标记粘接在金属托板上,之后即可上机切割。

本发明的有益效果:利用现有激光定向仪即可实现多台线切割机及内圆切割机共用一套定向设备的定向切割方法,大大减少设备费用,同时方法简单易操作,提高了工作效率。精度较高(≦1°),适用于晶向要求≦1°,X射线辐射时间短。

附图说明

图1是实施例1的晶体端面标记示意图;

图2是实施例1的金属托板结构示意图;

图3是实施例1的使用状态示意图;

图4是实施例2的使用状态示意图;

其中1为晶体、11为晶体端面、3为切透层、31为切透层长边、4为托板、41为托板长边、5为直线标记。

具体实施方式

下列非限制性实施例用于说明本发明

实施例1 

一种线切割晶体作图定向切割法,步骤依次包括:

A)在晶体端面11作任意两条过中心的垂直交叉直线X轴与Y轴,通过X射线衍射仪分别测出两条轴线方向上的晶向偏离度;

B)采用分量合成方法在晶体端面11作出晶体1总的晶向偏离方向,偏离角度值为S=;

C)作一条过中心且与总的晶向偏离方向垂直的直线,以此直线为粘接轴Z,由于总的晶向偏离方向位于第一象限,此时总的晶向偏离方向位于粘接轴Z右侧,因此其相对粘接轴Z的偏离方向向右,如图1所示;

D) 设一水平直线为标准线,保持粘接轴Z竖直方向,且晶体1中轴线按照上述右偏离方向向标准线右侧偏转,调整晶体1中轴线与标准线水平夹角为S,固定晶体1并按标准线方向上机切割。作为优选方式,如本实施例图1所示:首先将晶体1按粘接轴Z方向垂直粘接在长方体切透层3上,切透层3可以是树脂、陶瓷、石墨等制成,晶体1中轴线与切透层3长边31平行,然后在长方体金属托板4顶端以其长边41为标准线用角度仪按晶体偏离方向量出偏离度S,画一直线标记5,即以左长边向右偏离S画直线,再将粘接好的晶体1其切透层3长边31沿此直线标记5粘接在金属托板4上,如图2所示,此时晶体中轴线按照上述右偏离方向位于标准线右侧并偏离角度S,固定晶体1并按长边41方向上机切割,如图3所示。

实施例2 

如图4所示,一种线切割晶体作图定向切割法,步骤依次包括:

A)在经碱腐蚀处理的晶体端面11作任意两条过中心的垂直交叉直线X轴与Y轴,通过X射线衍射仪分别测出两条轴线方向上的晶向偏离度;

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