[发明专利]低成本高性能浸镀铝合金镀层材料无效
申请号: | 201110386915.7 | 申请日: | 2011-11-29 |
公开(公告)号: | CN103131993A | 公开(公告)日: | 2013-06-05 |
发明(设计)人: | 车云;门三泉;李祥 | 申请(专利权)人: | 贵州铝厂 |
主分类号: | C23C2/12 | 分类号: | C23C2/12;C22C21/10 |
代理公司: | 贵阳中新专利商标事务所 52100 | 代理人: | 吴无惧 |
地址: | 550058*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 低成本 性能 镀铝 合金 镀层 材料 | ||
1.一种低成本高性能浸镀铝合金镀层材料,其特征在于:按元素重量百分比计,该合金成分为Zn:5~15,极化变质剂:10-4~10-3,Li:0.1~1.0,Co:0.1~0.2,沉淀硬化剂:0.25~0.5,晶粒细化剂:0.2~0.3,La:0.01~0.1,基体界面反应缓冲剂:0.3~0.8,其余为Al和不可避免的微量杂质。
2.根据权利要求1所述的低成本高性能浸镀铝合金镀层材料,其特征在于:极化变质剂包括Ag、Ga、Ge、Be、Mg、Ca、Sr或Ba中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的低成本高性能浸镀铝合金镀层材料,其特征在于:沉淀硬化剂包括Bi、Cd、In、Pb、Sb中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的低成本高性能浸镀铝合金镀层材料,其特征在于:晶粒细化剂包括Co-B、Co-C、Co-N、Cr-B、Cr-C、Cr-N、Mo-C、Mo-N、Ni-B、Ni-C、Ni-N、Ti-B、Ti-C、Ti-N、Zr-B、Zr-C、Zr-N中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的低成本高性能浸镀铝合金镀层材料,其特征在于:基体界面反应缓冲剂包括Fe或Si中的一种或两种。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物