[发明专利]一种基于三维水力聚焦的微混合装置

权利要求书

1.一种三维聚焦微混合装置，包括键合为一体的基片和盖片，基片和盖片上内表面加工有相同的微通道结构，其特征在于，所述微通道结构包括相连通的四通道，其中第一和第三通道作为边路入口通道，第二通道作为中间入口通道，第四通道作为出口通道，中间入口通道与出口通道在同一直线上，两边路入口通道关于中间入口通道对称，中间入口通道的高度低于另外三个通道。

2.根据权利要求1所述的三维聚焦微混合装置，其特征在于，所述中间入口通道与边路入口通道的夹角小于90度。

3.权利要求1所述的三维聚焦微混合装置的加工方法，包括：

双层阳模加工步骤：在硅片上同一位置处先后软光刻两层微通道结构，其中第一层微通道结构包括两边路入口通道、中间入口通道和出口通道，第二层微通道结构包括两边路入口通道和出口通道；

基片和盖片加工步骤：利用所述双层阳模分别加工PDMS基片和PDMS盖片；

基片与盖片键合步骤：将基片与盖片的微通道结构相对进行键合。

4.根据权利要求3所述的加工方法，其特征在于，所述基片加工步骤具体为：在双层阳模上匀上一层液态PDMS，再将盖玻片贴于液态PDMS表面进行固化。