[发明专利]一种对陶瓷膜孔径进行连续精密调节的方法

权利要求书

1.一种对陶瓷分离膜孔道精密调节的方法，其具体步骤如下：

a将陶瓷分离膜置于原子层沉积仪器反应腔中，抽真空并加热反应室温度到250～450℃，使样品在设定温度下保持5～30min，反应腔内的气压为0.01～10torr；

b首先关闭出气阀，脉冲金属源前驱体，时间为0.01～1s，接着保持一段时间0～60s；然后打开出气阀，脉冲清扫气，清扫3～15s；再关闭出气阀，脉冲氧化前驱体0.01～1s，保持一段时间0～60s；最后再打开出气阀，脉冲清扫气，清扫3～15s；两种前驱体的温度恒定在20～50℃之间；

c根据具体的需要，重复步骤b，精密调节孔道的大小。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于步骤b中所述的金属源前驱体为三甲基铝或异丙醇钛或四氯化钛；所述的氧化前驱体为去离子水。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于步骤b中所述的清扫气为氮气或氩气。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于步骤c中所述的重复步骤b的次数为10～2000次。