[发明专利]集成电路版图在缩小实验后自动连线的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种集成电路版图的处理方法。

背景技术

为了提高竞争力，集成电路的版图经常需要进行缩小(shrink)实验。例如，IP核(知识产权核)的缩小实验主要是将内部的单元阵列(cell array)进行缩小，以测试功能是否仍然正常，这在短时间内进行流片试验的时候特别有用。

请参阅图1a，这是一个IP核的版图，包括位于中心区域的单元阵列10和周边电路20。请参阅图1b，在进行缩小实验后，缩小后的单元阵列10’与周边电路20之间形成了一个环形的空白区域30。原来单元阵列10和周边电路20之间是有许多连线相连接的。缩小后的单元阵列10’与周边电路20之间的连线全部断开了，需要在空白区域30重新连线。

业界通用的EDA(电子设计自动化)版图布线工具采用迷宫算法进行集成电路版图在缩小实验后的自动连线，其布线效果十分零乱，部分区域无法布线。目前通用的做法是采用人工处理，这需要花费较长时间，并且很容易出错。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种集成电路版图在进行缩小实验后，可以自动将断开的连线重新连接上的方法。

为解决上述技术问题，本发明集成电路版图在缩小实验后自动连线的方法包括如下步骤：

第1步，将缩小后的单元阵列称为缩小阵列；

将周边电路划分为上、下、左、右四个区域，分别称为周边上区、周边下区、周边左区、周边右区；

将缩小阵列和周边电路之间的空白区域也划分为上、下、左、右四个区域，分别称为空白上区、空白下区、空白左区、空白右区；

第2步，将周边左区中的所有节点和缩小阵列的左侧的所有节点按照顺序一一配对；

每一对节点中，位于周边左区中的节点称为周边节点，位于缩小阵列的左侧的节点称为阵列节点；

第3步，对于第一对节点：

当周边节点的y轴坐标＞阵列节点的y轴坐标，则在空白左区中采用横线——由上到下的竖线——横线连接这一对节点；其中竖线与缩小阵列的左侧的距离为d1＝via+2×space；所述via指接触孔的宽度，space指两根金属线之间的最小间距；

当周边节点的y轴坐标＜阵列节点的y轴坐标，则在空白左区中采用横线——由下到上的竖线——横线连接这一对节点；其中竖线与周边左区的距离为d1；

当周边节点的y轴坐标＝阵列节点的y轴坐标，则在空白左区中采用横线连接这一对节点；

第4步，对于下一对节点：

当周边节点的y轴坐标＞阵列节点的y轴坐标，则在空白左区中采用横线——由上到下的竖线——横线连接这一对节点；

当周边节点的y轴坐标＜阵列节点的y轴坐标，则在空白左区中采用横线——由上到下的竖线——横线连接这一组节点；

所述竖线与上一对节点连线中的竖线的距离为d2＝width+space；所述width指金属线的宽度；

当周边节点的y轴坐标＝阵列节点的y轴坐标，则在空白左区中采用横线连接这一对节点；

第5步，重复第4步处理每一对节点；当遇到有无法满足条件的一对或多对节点时，对这一对或多对节点不予连线；

剩余的未连线的一对或多对节点称为剩余节点对；

第6步，对剩余节点对中的第一对节点：

当周边节点的y轴坐标＞阵列节点的y轴坐标，则在空白左区中以两个接触孔电极分别将周边节点、阵列节点引至另一层金属，在该层金属中采用横线——由上到下的竖线——横线连接两个接触孔电极；其中竖线与缩小阵列的左侧的距离为d1；

当周边节点的y轴坐标＜阵列节点的y轴坐标，则在空白左区中以两个接触孔电极分别将周边节点、阵列节点引至另一层金属，在该层金属中采用横线——由下到上的竖线——横线连接两个接触孔电极；其中竖线与周边左区的距离为d1；

当周边节点的y轴坐标＝阵列节点的y轴坐标，则在空白左区中以两个接触孔电极分别将周边节点、阵列节点引至另一层金属，在该层金属中采用横线连接两个接触孔电极；

第7步，对剩余节点对中的下一对节点：

当周边节点的y轴坐标＞阵列节点的y轴坐标，则在空白左区中以两个接触孔电极分别将周边节点、阵列节点引至另一层金属，在该层金属中采用横线——由上到下的竖线——横线连接两个接触孔电极；

当周边节点的y轴坐标＜阵列节点的y轴坐标，则在空白左区中以两个接触孔电极分别将周边节点、阵列节点引至另一层金属，在该层金属中采用横线——由下到上的竖线——横线连接两个接触孔电极；