[发明专利]光刻设备和方法

权利要求书

1.一种光刻投影设备，包括：

投影系统，配置成将图案化的束投影到衬底上，所述投影系统具有最终元件；

液体处理系统，配置成用于将浸没液体供给至所述最终元件和衬底之间的空间；

热耦合至所述最终元件的多个独立可控的加热和/或冷却装置，所述加热和/或冷却装置被间隔开；和

控制系统，耦合至所述多个加热和/或冷却装置，且配置成分离地控制这些加热和/或冷却装置以在所述最终元件中保持需要的空间温度分布。

2.根据权利要求1所述的光刻投影设备，其中，所述液体处理系统包括至少部分地包围所述空间的阻挡构件，所述阻挡构件包括所述多个加热和/或冷却装置。

3.根据权利要求2所述的光刻投影设备，其中，所述阻挡构件具有从其中延伸穿过的多个流体导管，其中，所述多个加热和/或冷却装置对应于至少一些所述流体导管设置。

4.根据权利要求3所述的光刻投影设备，其中，所述流体导管包括多个抽取导管，所述抽取导管被设置以抽取浸没液体和气体的混合物，所述多个加热和/或冷却装置中的至少一个邻近所述抽取导管中的每个设置。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光刻投影设备，进一步包括多个温度传感器。

6.根据附属于权利要求2至4中任一项的权利要求5所述的光刻投影设备，其中，所述多个温度传感器中的至少一个嵌入到所述阻挡构件的材料中。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的光刻投影设备，其中，所述控制系统包括数量等于所述加热和/或冷却装置的多个控制电路，所述控制电路中的每个分别连接至所述加热和/或冷却装置中的一个。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的光刻投影设备，其中，所述控制系统包括被设置用于控制多个加热和/或冷却装置的控制电路。

9.一种在浸没式光刻投影设备中补偿局部热负载的方法，所述浸没式光刻投影设备包括投影系统，所述投影系统具有最终元件且被配置以投影图像至衬底上，所述方法包括步骤：

控制热耦合至最终元件的多个间隔开的加热和/或冷却装置，以在最终元件中保持需要的空间温度分布。

10.一种器件制造方法，包括步骤：

使用具有最终元件的投影系统通过浸没流体把图像投影到衬底上；和

控制热耦合至所述最终元件的多个间隔开的加热和/或冷却装置，以在所述最终元件中保持需要的空间温度分布。