[发明专利]XMR角度传感器有效

专利信息
申请号: 201110367746.2 申请日: 2011-11-18
公开(公告)号: CN102538659B 公开(公告)日: 2016-11-23
发明(设计)人: J.齐默 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: G01B7/30 分类号: G01B7/30
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 刘春元;蒋骏
地址: 德国瑙伊比*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: xmr 角度 传感器
【权利要求书】:

1.一种传感器元件,包括:

非细长xMR结构;以及

在xMR结构上形成的多个接触区,所述多个接触区彼此间隔开使得当在所述多个接触区之间施加电压时,在xMR结构中感应非均匀电流方向和电流密度分布。

2.根据权利要求1所述的传感器元件,其中,所述多个接触区中的每一个紧接于所述xMR结构的边缘。

3.根据权利要求1所述的传感器元件,其中,在所述xMR结构的最大横向尺寸的方向上定义第一轴,并且,与所述第一轴基本上垂直地定义第二轴,其中,所述xMR结构沿所述第一轴和所述第二轴的尺寸之比小于大约1.5。

4.根据权利要求1所述的传感器元件,其中,所述xMR结构具有相等的横向尺寸。

5.根据权利要求1所述的传感器元件,其中,所述xMR结构是旋转对称的。

6.根据权利要求1所述的传感器元件,其中,所述xMR结构是多边的,并且其中多边xMR结构的相邻边之间的交点遵循旋转对称。

7.根据权利要求1所述的传感器元件,其中,所述xMR结构是多边的,并且其中多边xMR结构的相邻边之间的交点基本上是在圆上均匀分布的。

8.根据权利要求1所述的传感器元件,其中,所述xMR结构具有半径。

9.根据权利要求8所述的传感器元件,其中,所述xMR结构基本上是圆形的。

10.根据权利要求1所述的传感器元件,还包括与所述多个接触区中的至少一个相邻布置的至少一个高度导电区。

11.根据权利要求1所述的传感器元件,包括串行耦合的多个xMR结构。

12.根据权利要求11所述的传感器元件,其中,所述传感器元件的净电流方向定义了期望轴,其中,所述多个xMR结构中的第一个在其轴与期望轴之间具有第一角度,并且其中所述多个xMR结构中的第二个在其轴与期望轴之间具有第二角度,所述第一角度和所述第二角度相等但具有相反的符号。

13.根据权利要求1所述的传感器元件,其中,所述多个接触区包括通孔。

14.根据权利要求1所述的传感器元件,其中,所述多个接触区包括条带。

15.根据权利要求1所述的传感器元件,其中,所述多个接触区被配置为提供所述xMR结构的与同均匀电流密度分布相关联的电阻相比增大的电阻。

16.根据权利要求1所述的传感器元件,其中,所述xMR结构的直径处于大约1微米(μm)至大约100 μm的范围内。

17.根据权利要求16所述的传感器元件,其中,所述xMR结构的直径处于大约5 μm至大约20 μm的范围内。

18.一种传感器,包括:

第一非细长xMR元件,具有在该第一xMR元件上形成的多个接触区,所述多个接触区彼此间隔开使得当在所述多个接触区之间施加电压时,在第一xMR元件中感应局部非均匀电流方向和电流密度分布,并且第一xMR元件中的净电流方向定义了第一轴;以及

第二非细长xMR元件,具有在该第二xMR元件上形成的多个接触区,所述多个接触区彼此间隔开使得当在所述多个接触区之间施加电压时,在第二xMR元件中感应局部非均匀电流方向和电流密度分布,并且第二xMR元件中的净电流方向定义了第二轴,所述第二轴基本上相对于所述第一轴正交。

19.根据权利要求18所述的传感器,其中,所述多个接触区中的每一个紧接于相应xMR结构的边缘。

20.根据权利要求18所述的传感器,其中,所述第一xMR元件或所述第二xMR元件中的至少一个包括巨磁阻(GMR)元件或隧道磁阻(TMR)元件之一。

21.根据权利要求18所述的传感器,其中,所述第一xMR元件或所述第二xMR元件中的至少一个包括各向异性磁阻(AMR)元件,并且其中所述AMR元件对外部磁场不敏感。

22.根据权利要求18所述的传感器,其中,所述第二xMR元件通过xMR部分而耦合至所述第一xMR元件。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英飞凌科技股份有限公司,未经英飞凌科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110367746.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top