[发明专利]一种活性阴极无效
| 申请号： | 201110352078.6 | 申请日： | 2011-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN102383146A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 王宇;岳冠华;汪长征 | 申请（专利权）人： | 北京建筑工程学院 |
| 主分类号： | C25B11/04 | 分类号： | C25B11/04;C25B1/34 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100044*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 活性 阴极 | ||
【权利要求书】：
1.一种活性阴极，应用于水或水溶液电解工艺中，其特征在于包括：
导电基底；
设置于所述基底表面上的预镀层；以及
设置于所述预镀层表面上的复合镀层。
2.根据权利要求1所述的活性阴极，其特征在于，所述导电基底为铁或者低碳钢中的一种。
3.根据权利要求1所述的活性阴极，其特征在于，所述预镀层为镍。
4.根据权利要求1所述的活性阴极，其特征在于，所述复合镀层为Ni与镍粉的混合物。
5.根据权利要求4所述的活性阴极，其特征在于，所述镍粉粒度大于或等于350目。
6.根据权利要求1所述的活性阴极，其特征在于，还包括设置于所述复合镀层上的镍钼合金镀层。
7.根据权利要求6所述的活性阴极，其特征在于，所述镍钼合金镀层的厚度为0.2mm。
8.根据权利要求6所述的活性阴极，其特征在于，所述镍钼合金镀层中Ni与Mo摩尔比为4∶1至3∶1。
9.一种电解槽，应用于水或水溶液电解工艺中，包括活性阴极，其特征在于，所述活性阴极为上述权利要求1至8任一所述的活性阴极。
10.一种电极装置，其特征在于，应用上述权利要求9所述的电解槽。
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