[发明专利]显示装置有效
申请号: | 201110347954.6 | 申请日: | 2006-02-23 |
公开(公告)号: | CN102419958A | 公开(公告)日: | 2012-04-18 |
发明(设计)人: | N·W·哈古德;R·巴顿 | 申请(专利权)人: | 皮克斯特罗尼克斯公司 |
主分类号: | G09G3/34 | 分类号: | G09G3/34;G02B26/02 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人: | 郑建晖;杨勇 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 | ||
1.一种用于形成图像的显示装置,包括:
反射性材料层,用于反射光远离所述显示装置的前面;
基于MEMS的光调制器的阵列,紧邻所述反射性材料层被支撑,其中每个基于MEMS的光调制器都包括调制元件和用于相对于所述反射性材料层移动所述调制元件的作动器,从而在所述显示装置上形成像素;以及
在所述反射性材料层中形成的多个孔径光阑,用于允许光穿过所述反射性材料层。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述调制元件包括快门,所述快门用于选择性地遮挡所述多个孔径光阑中的至少一个。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其中每个所述多个孔径光阑都对应所述基于MEMS的光调制器中的一个。
4.根据权利要求1所述的显示装置,包括垫片,其被布置在所述反射性材料层和所述阵列之间以保持所述调制元件离所述反射性材料层大约一预定的间距。
5.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述基于MEMS的光调制器的调制元件被保持远离所述反射性材料层小于大约100微米。
6.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述基于MEMS的光调制器的调制元件被保持远离所述反射性材料层小于大约10微米。
7.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述反射性材料层将照射在所述反射性材料层的一表面上的光反射,该表面背对所述基于MEMS的光调制器的阵列。
8.根据权利要求7所述的显示装置,其中所述反射性材料层将照射在所述反射性材料层的一表面上的光吸收,该表面面对所述基于MEMS的光调制器的阵列。
9.根据权利要求7所述的显示装置,包括第二反射性材料层,其位于所述反射性材料层的远离所述基于MEMS的光调制器的相对侧,并且面对所述反射性材料层。
10.根据权利要求9所述的显示装置,包括光导,其位于所述反射性材料层和所述第二反射性材料层之间。
11.根据权利要求1所述的显示装置,包括液体,其至少位于所述调制元件和所述反射性材料层之间。
12.根据权利要求11所述的显示装置,其中所述液体是润滑剂。
13.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述反射性材料层包括介电体镜。
14.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述反射性材料层包括金属。
15.根据权利要求1所述的显示装置,其中所述基于MEMS的光调制器被配置为基本在与所述反射性材料层平行的平面内移动所述调制元件。
16.一种用于形成图像的显示装置,包括:
反射性材料层,用于反射光远离所述显示装置的前面;
基于MEMS的光调制器的阵列,紧邻所述反射性材料层被支撑,其中每个基于MEMS的光调制器都包括调制元件和用于相对于所述反射性材料层移动所述调制元件的作动器,从而在所述显示装置上形成像素,其中所述反射性材料层将照射在所述反射性材料层的一表面上的光反射,该表面背对所述基于MEMS的光调制器的阵列;以及
第二反射性材料层,其位于所述反射性材料层的远离所述基于MEMS的光调制器的相对侧,并且面对所述反射性材料层。
17.根据权利要求16所述的显示装置,其中所述基于MEMS的光调制器的调制元件被保持远离所述反射性材料层小于大约100微米。
18.根据权利要求16所述的显示装置,其中所述基于MEMS的光调制器的调制元件被保持远离所述反射性材料层小于大约10微米。
19.根据权利要求16所述的显示装置,其中所述反射性材料层将照射在所述反射性材料层的一表面上的光吸收,该表面面对所述基于MEMS的光调制器的阵列。
20.根据权利要求16所述的显示装置,包括液体,其至少位于所述调制元件和所述反射性材料层之间。
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