[发明专利]一种消除晶点、提高阻隔的PVDC薄膜的制造方法有效
| 申请号: | 201110347831.2 | 申请日: | 2011-11-07 |
| 公开(公告)号: | CN102443231A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
| 发明(设计)人: | 薛立新;刘富;王益;朱琦良 | 申请(专利权)人: | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号: | C08L27/08 | 分类号: | C08L27/08;C08K13/02;C08K5/12;C08K5/523;C08K5/103;C08K5/521;C08K5/10;C08K5/11;B29C49/04;B29C47/92;B29C55/12;B29B7/80;B29L7/00 |
| 代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 杜军 |
| 地址: | 315201 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 消除 提高 阻隔 pvdc 薄膜 制造 方法 | ||
1.一种消除晶点、提高阻隔的PVDC薄膜的制造方法,其特征在于该方法的具体步骤是:
步骤(1).将重量份数为1.0~6.0份的增塑剂、0.1~3.0份的热稳定剂、0.1~1.0份的润滑剂、0.05~0.5份的无机氧化物,在35~50℃下机械搅拌1~24小时,得到混合均匀的助剂;
所述的增塑剂为环己烷二羧酸二异壬基酯、环氧树脂EPON828、磷酸二苯基辛基酯、二丙二醇二苯甲酸酯、聚(1,3丁二醇/1,2丙二醇)己二酸酯、磷酸三氯乙酯、双(2-乙基,己基)异钛酸酯、顺丁烯二酸二丁酯、癸二酸二丁酯、癸二酸二辛酯、己二酸二辛酯、柠檬酸三丁酯、乙酰基柠檬酸三丁酯中的一种或者任意几种的混合物;
所述的热稳定剂为羧酸巯基乙酯锑、二月桂酸二正辛基锡、水滑石、环氧大豆油、环氧亚麻油中的一种或者任意几种的混合物;
所述的润滑剂为硬脂酸酯、硬脂酸钙、硬脂酸钠、硬脂酸镁、硬脂酸锌中的一种或者任意几种的混合物;
所述的无机氧化物为滑石粉、碳酸钙、氧化钛、氧化硅、蒙脱土、高岭土中的一种或者任意几种的混合物;
步骤(2).将聚偏氯乙烯树脂加入到螺条式混合机中,开启混合机,并匀速升温;当温度升至40~60℃时,将助剂加入到螺条式混合机中,加入助剂的重量为聚偏氯乙烯树脂重量的1.0~10.0%;继续搅拌升温至70~90℃后,开始匀速降温,冷却至40~60℃后出料,所出物料为改性聚偏氯乙烯树脂;将改性聚偏氯乙烯树脂自然冷却至常温,装袋后置于在20~30℃的恒温环境中熟化5~10天,得到熟化的改性PVDC树脂;
所述的聚偏氯乙烯树脂的重均分子量为10~18万,为偏氯乙烯与氯乙烯、丙烯腈、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯、富马酸、马来酸酐、甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸聚乙二醇酯其中之一的共聚物,其中偏氯乙烯链段在PVDC树脂中的质量含量为75~95%;
步骤(3).通过单螺杆挤出机对已经熟化的改性PVDC树脂进行吹塑,得到管坯;管坯冷却温度2~8℃,管坯预热温度10~20℃,管坯预热后经过四级牵引后形成聚偏氯乙烯薄膜。
2.如权利要求1所述的一种消除晶点、提高阻隔的PVDC薄膜的制造方法,其特征在于:步骤(2)中加入助剂的重量为聚偏氯乙烯树脂重量的2.0~6.0%。
3.如权利要求1所述的一种消除晶点、提高阻隔的PVDC薄膜的制造方法,其特征在于:步骤(2)中匀速升温的速度为0.5~1.5℃/分钟,匀速降温的速度为1~3℃/分钟。
4.如权利要求1所述的一种消除晶点、提高阻隔的PVDC薄膜的制造方法,其特征在于:所述的聚偏氯乙烯树脂的重均分子量为11~15万,为偏氯乙烯和氯乙烯、丙烯腈、甲基丙烯酸甲酯的共聚物,偏氯乙烯链段在PVDC树脂中的质量含量为80~90%。
5.如权利要求1所述的一种消除晶点、提高阻隔的PVDC薄膜的制造方法,其特征在于步骤(3)中吹膜过程中的具体工艺参数为:单螺杆挤出机加工区间中一区120~130℃、二区155~165℃、三区150~164℃、法兰155~160℃、转换器150~160℃、模体150~160℃、模头唇155~165℃,单螺杆转速20~50转/分钟。
6.如权利要求1所述的一种消除晶点、提高阻隔的PVDC薄膜的制造方法,其特征在于步骤(3)中所述的四级牵引具体是:第一级牵引为轴向拉伸,拉伸比为0.8~1.2;第二级牵引为吹胀牵引,轴向的拉伸比为2.5~4.0,径向的拉伸比为2.0~5.0;第三级牵引为轴向拉伸,拉伸比为1.0~1.3;第四级牵引为轴向拉伸,拉伸比为1.1~1.4。
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