[发明专利]瓶盖用光学防伪标志无效

专利信息
申请号: 201110327851.3 申请日: 2011-10-26
公开(公告)号: CN102642663A 公开(公告)日: 2012-08-22
发明(设计)人: 李西军;董祖刚 申请(专利权)人: 李西军
主分类号: B65D51/24 分类号: B65D51/24
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 621000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 瓶盖 用光 防伪 标志
【权利要求书】:

1.一种瓶盖用光学防伪标志,其特征在于:在瓶盖的掩埋保护层下面设置有一防伪器件层,该层是经过模板压印或复制在金属箔上,或不透明的高反射的材料上,或成长在一个不透明的材料上的纳米结构。

2.根据权利要求1所述的瓶盖用光学防伪标志,其特征在于:在10度到80度视角内查看所述防伪器件时,器件呈现的颜色变化范围从可见光谱的紫色到红色。

3.根据权利要求1所述的瓶盖用光学防伪标志,其特征在于:所述防伪器件的最小像素的截面结构具有轴对称性或不具有非对称轴,结构的高度差在50纳米到500纳米之间。

4.根据权利要求1所述的瓶盖用光学防伪标志,其特征在于:所述防伪器件像素的俯视图中为正方形、圆形、直线、具有圆对称性的圆弧的一部分、或具有俯视方向上的3重,5重和6重对称性。

5.根据权利要求1所述的瓶盖用光学防伪标志,其特征在于:所述防伪器件层上设置有掩埋保护层。

6.根据权利要求1所述的瓶盖用光学防伪标志,其特征在于:所述防伪器件层上的像素上或像素之间再设置有二次加密结构。

7.根据权利要求6所述的瓶盖用光学防伪标志,其特征在于:所述加密结构是沟槽或突出的结构,沟槽或突出的结构的一个宽度或长度在150纳米或以下,深度或厚度在100纳米以下。

8.根据权利要求6所述的瓶盖用光学防伪标志,其特征在于:所述加密结构是具有磁性、光学性能的结构,所述磁性、光学性能具有厚度在10-100纳米之间,横向尺度在150纳米到周期大小的防伪内。

9.根据权利要求1所述的瓶盖用光学防伪标志,其特征在于:所述防伪器件层把一个完整图案拆成几个空间是分离的子图案,每个子图案有固定的构成像素和周期;或把一个完整的图案拆成几个子图案,被拆成的几个子图案在数微米到数十微米尺度,每个子图案的像素在空间是靠近但是不重叠。

10.根据权利要求1所述的瓶盖用光学防伪标志,其特征在于:所述防伪器件层为呈现不同颜色采用具有周期性的凹凸结构(或像素)图案阵列或基本结构,所述像素阵列的周期是500纳米到3微米,每个基本结构的尺寸是对应周期的0.3-0.7倍。

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