[发明专利]改进等离子均匀性和效率的电感耦合等离子装置无效
申请号: | 201110319252.7 | 申请日: | 2011-10-19 |
公开(公告)号: | CN102395243A | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
发明(设计)人: | 石刚;许颂临;倪图强 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)有限公司 |
主分类号: | H05H1/46 | 分类号: | H05H1/46 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 王洁 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 改进 等离子 均匀 效率 电感 耦合 装置 | ||
1.一种等离子反应器,其中,包括:
封闭壳体,其包括顶板,所述顶板构成一绝缘材料窗;
基片支撑装置,设置于所述封闭壳体内的绝缘材料窗下方;
射频功率发射装置,设置于所述绝缘材料窗上方,以发射射频能量到所述封闭壳体内;
气体注入器,用于向所述封闭壳体内供应处理气体,
挡板,设置于所述封闭壳体内以及所述基片支撑装置上方和所述气体注入器下方,以限制处理气体的流动。
所述挡板包括嵌入其中的次级射频天线。
2.根据权利要求1所述的等离子反应器,其特征在于,所述挡板是一个带有中心开口的圆盘。
3.根据权利要求2所述的等离子反应器,其特征在于,所述挡板进一步地包括一个从所述中心开口处向所述基片支撑装置处延伸的垂直方向的延展部。
4.根据权利要求1所述的等离子反应器,其特征在于,所述挡板和所述基片支撑装置之间的间隙的宽度是可调的。
5.根据权利要求1所述的等离子反应器,其特征在于,所述挡板由绝缘材料制成。
6.根据权利要求5所述的等离子反应器,其特征在于,所述绝缘材料包括阳极化的铝、陶瓷和石英的任一项。
7.根据权利要求1所述的等离子反应器,其特征在于,所述挡板包括嵌入次级射频天线的绝缘盘,还包括一设置于挡板的其中一面的导体盘,以阻挡射频能量穿过所述导体盘。
8.根据权利要求1所述的等离子反应器,其特征在于,施加到射频功率发射装置和所述辅助射频天线的电源功率是相互独立控制的。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中微半导体设备(上海)有限公司,未经中微半导体设备(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110319252.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。