[发明专利]谐波抑制滤波器有效

专利信息
申请号: 201110318608.5 申请日: 2011-10-19
公开(公告)号: CN103066355A 公开(公告)日: 2013-04-24
发明(设计)人: 王清源;谭宜成;宋大伟 申请(专利权)人: 成都赛纳赛德科技有限公司
主分类号: H01P1/212 分类号: H01P1/212
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 梁田
地址: 610000 *** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 谐波 抑制 滤波器
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种谐波抑制器,具体地说,是涉及一种脊波导加谐振腔结构的高功率谐波抑制滤波器。

背景技术

滤波器技术中抑制寄生通带一直是关注的热点,但是没有提出很好的方法抑制腔体滤波器中的寄生通带。 

传统的抑制寄生通带的方法是:级联低通滤波器、采用同轴腔体、阻抗变换或者Finline形式。级联低通滤波器会增加体积、重量和插损,阻抗变换和Finline抑制寄生通带效果比较差,只能抑制到二倍频。采用同轴谐振腔抑制寄生通带,则需要加载电容。谐振腔的体积缩小有利用滤波器的小型化。

1965年B.M.SCHIFFMAN等人发表了A Rectangular-waveguide Filter Using Trapped-Mode Resonators (IEEE TRANS ON MTT, vol. MTT-13, NO.5, SEP 1965) 论文,文中提出了采用吸波材料加载滤波器抑制寄生通带。但是该滤波器输入输出端口不在同一线上,在与其它器件级联时可能带来不便。同时,这种滤波器的尺寸比较大,特别是在滤波器的H面上尺寸很大,不利于滤波器的小型化。

发明内容

本发明的目的在于提供一种采用同轴谐振腔的谐波抑制滤波器,可以用于在大功率条件下的高次模谐波抑制技术。

为了实现上述目的,本发明采用的技术方案为:

谐波抑制滤波器,包括空腔底座、以及设置在空腔底座腔口处的上盖板,所述空腔底座底部连接有脊结构,所述脊结构远离空腔底座底部的一端连接有至少2个金属柱;所述脊结构的两端还连接有输入输出结构;所述上盖板还开有凹槽构成谐振腔,所述谐振腔位于金属柱的上方;所述上盖板还安装有调谐螺钉,所述调谐螺钉贯穿上盖板并延伸进谐振腔内部;所述调谐螺钉位于金属柱上方;所述调谐螺钉指向谐振腔内的端头为旋转光滑曲面,曲面导角半径大于调谐螺钉直径的1/6。

所述金属柱沿脊结构的轴向排列。

所述调谐螺钉延伸进谐振腔内部的最大位移距离是谐振腔的深度。

所述脊结构靠近金属柱的端面沿边进行倒角的半径大于其宽度的1/6。

所述谐振腔的宽度小于150mm/f2,其中f2是该谐波抑制滤波器基波通带最高频率,其f2的单位为GHz。

所述空腔底座的宽度小于150mm/f2,其中f2是该谐波抑制滤波器基波通带最高频率,其f2的单位为GHz。

所述金属柱横截面形状为圆形,其指向盖板方向的顶端为光滑旋转曲面,其弧面半径大于金属柱直径的1/6。

所述金属柱横截面形状为矩形,其指向盖板方向的顶端为光滑旋转曲面,其弧面半径大于金属柱直径的1/6。

基于上述内容,本发明包括上盖板、空腔底座、脊结构、金属柱、谐振腔、调谐螺钉,输入输出结构位于腔体两端,输入输出结构可以用同轴或波导过渡结构。

所述金属柱至少有两个,其底端与脊结构相连,顶端悬空。金属柱的横切面可以是矩形或圆柱结构,金属柱的顶端均采用倒圆角处理,若为圆柱形则顶端为半径大于金属柱直径1/6的光滑旋转面;若为矩形则顶端倒角半径和横截面倒角半径都大于金属柱宽度的1/6。 

为了保证谐波抑制器的大功率容量,所述调谐螺钉延伸进谐振腔内部的最大位移距离是谐振腔的深度。

为保证基波的传输,谐振腔的宽度以及空腔底座的宽度均小于100mm/f2。 

与现有技术相比,本发明具有以下优点:高功率,可调谐,结构简单易于加工,小型化。

附图说明

图1为本发明的纵向刨面图。

图2为图1的A-A剖面图。

图中的标号为:1、上盖板;2、空腔底座; 3、脊结构;4、金属柱;5、谐振腔;6、调谐螺钉;7、输入输出结构。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明作进一步地详细说明,但本发明实施方式不限于此。

如图1、图2所示,谐波抑制滤波器,包括上盖板1、空腔底座2、脊结构3、金属柱4、谐振腔5、调谐螺钉6和输入输出结构7。本例中脊结构设有5个金属柱4,上盖板1的调谐螺钉6仅深入到谐振腔5内部。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都赛纳赛德科技有限公司,未经成都赛纳赛德科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110318608.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top