[发明专利]采用离子注入技术制备医用高分子材料的方法

权利要求书

1.采用离子注入技术制备医用高分子材料的方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)将医用高分子材料固定或移动经过离子注入设备的真空室内的处理台；

2)密封真空室，抽真空到本底真空度；

3)通入气体；

4)开启离子注入机的电源，控制加速电源和离子注入剂量，处理结束后，得到具有高抗感染性和生物相容性的医用高分子材料。

2.根据权利要求1所述的采用离子注入技术制备医用高分子材料的方法，其特征在于，所述步骤4)还包括开启等离子体源的电源处理材料0.001～5小时。

3.根据权利要求1或2所述的采用离子注入技术制备医用高分子材料的方法，其特征在于，所述医用高分子材料包括聚酯、聚烯烃、聚氨酯、聚酰胺、纤维素中的一种或两种以上共混物。

4.根据权利要求3所述的采用离子注入技术制备医用高分子材料的方法，其特征在于，所述医用高分子材料包括聚四氟乙烯、纤维素、聚醚醚酮、壳聚糖、甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇、聚乙二醇、聚乙烯基吡咯烷酮、聚乙醇酸、聚乙烯、聚苯乙烯、聚丙烯、聚乳酸、聚酰胺-66、聚酰胺-6中的一种或两种以上共混物。

5.根据权利要求1或2所述的采用离子注入技术制备医用高分子材料的方法，其特征在于，所述气体为氩气，所述真空室内通入气体后的真空度维持在1.0×10¹～1.0×10^-4Pa。

6.根据权利要求5所述的采用离子注入技术制备医用高分子材料的方法，其特征在于，所述气体还包括氮气、氨气、氧气、氢气、甲烷、乙炔、乙醇气体、水蒸汽、四氯甲烷气体、醋酸气体、丙烯酸气体中的一种或两种以上气体的混合物。

7.根据权利要求1或2所述的采用离子注入技术制备医用高分子材料的方法，其特征在于，所述离子注入机装有电极；所述电极包括银、铝、锌、钛、铜、碳、磷、钙、石墨及它们的化合物中的一种或两种以上混合物。

8.根据权利要求2所述的采用离子注入技术制备医用高分子材料的方法，其特征在于，所述等离子体源包括霍尔等离子体源、射频等离子体源；所述等离子体源的频率为1～50MHz，功率为0.001～3000W。

9.根据权利要求1所述的采用离子注入技术制备医用高分子材料的方法，其特征在于，所述离子注入机控制加速电压为2～50KV，离子注入剂量为1×10¹⁰～1×10¹⁸ions/cm²。

10.根据权利要求1或2所述的采用离子注入技术制备医用高分子材料的方法，其特征在于，所述医用高分子材料移动是将医用高分子材料以移动速率为0.01～10厘米/秒经过离子注入设备的真空室内的处理台。