[发明专利]影像内插的处理方法有效
申请号: | 201110294525.7 | 申请日: | 2011-09-29 |
公开(公告)号: | CN103034976A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 黄裕程;吴宗达 | 申请(专利权)人: | 华晶科技股份有限公司 |
主分类号: | G06T5/00 | 分类号: | G06T5/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 中国台湾新*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 影像 内插 处理 方法 | ||
1.一种影像内插的处理方法,其特征在于,包括:
针对一原始影像中的一选定区域,利用一边缘检测法检测该选定区域有无一边缘存在,并决定该边缘的一边缘方向;
在该边缘方向的法线方向上,利用原始影像中的多个像素点内插出多个轮廓像素点,以构成一边缘轮廓线,其中一目标像素点位于该边缘轮廓线上;
判断该边缘轮廓线的亮度值变化趋势,并找出该些轮廓像素点中的两极值点;
判断该目标像素点位于一渐层区域或一非渐层区域;
若该目标像素点位于该非渐层区域,根据该两极值点的亮度值与该目标像素点的亮度值,计算一内插调整值;以及
根据该内插调整值,对该选定区域进行内插处理,以获得该目标像素点的一内插结果。
2.根据权利要求1所述的影像内插的处理方法,其中判断该边缘轮廓线的亮度值变化趋势的步骤包括:
利用该边缘轮廓线上靠近该目标像素点的多个轮廓像素点来判断该边缘轮廓线的亮度值变化趋势为一递增趋势或一递减趋势。
3.根据权利要求2所述的影像内插的处理方法,其中:
该两极值点包括一最大极值点以及一最小极值点,
其中该最大极值点为自该目标像素点位置往该边缘轮廓线的亮度值变化趋势为递增趋势的方向上的该些轮廓像素点中具有最大亮度值者,该最小极值点为自该目标像素点位置往该边缘轮廓线的亮度值变化趋势为该递减趋势的方向上的该些轮廓像素点中具有最小亮度值者。
4.根据权利要求3所述的影像内插的处理方法,其中判断该目标像素点位于该渐层区域或该非渐层区域的步骤包括:
根据该两极值点的亮度值与该目标像素点的亮度值,判断该目标像素点的亮度值靠近该两极值点的哪一者的亮度值,定义该极值点为一目标极值点;
自该目标像素点位置,往该目标极值点的一端判断该些轮廓像素点中是否有一转折点存在;
若该些轮廓像素点中存在该转折点,该目标像素点位于该非渐层区域;以及
若该些轮廓像素点中不存在该转折点,该目标像素点位于该渐层区域。
5.根据权利要求4所述的影像内插的处理方法,其中自该目标像素点位置,往该目标极值点的一端判断该些轮廓像素点中是否有该转折点存在的步骤包括:
当该目标极值点位于该边缘轮廓线的左侧时,若该边缘轮廓线左侧多个像素点的亮度变化趋势和该边缘轮廓线的亮度变化趋势相反或该边缘轮廓线左侧起始多个像素点亮度变化趋势小于一临界值,则存在该转折点,反之,则不存在该转折点;以及
当该目标极值点位于该边缘轮廓线的右侧时,若该边缘轮廓线右侧多个像素点的亮度变化趋势和该边缘轮廓线的亮度变化趋势相反或该边缘轮廓线右侧起始数个像素点亮度变化趋势小于一临界值,则存在该转折点,反之,则不存在该转折点。
6.根据权利要求4所述的影像内插的处理方法,其中根据该两极值点的亮度值与该目标像素点的亮度值,计算该内插调整值的步骤包括:
计算该最大极值点与该最小极值点的一中心点,并利用该最大极值点的亮度值与该最小极值点的亮度值进行算术平均以获得该中心点的亮度值;
若该目标像素点的亮度值大于该中心点的亮度值,则该目标极值点为该最大极值点,反之,则该目标极值点为该最小极值点;以及
利用该中心点的亮度值、该目标像素点的亮度值与该目标极值点的亮度值,计算该内插调整值。
7.根据权利要求1所述的影像内插的处理方法,其中根据该内插调整值,对该选定区域进行内插处理,以获得该目标像素点的该内插结果的步骤包括:
根据该内插调整值,对该选定区域进行双向性内插处理,以获得该目标像素点的该内插结果。
8.根据权利要求1所述的影像内插的处理方法,还包括:
若该目标像素点位于该渐层区域,对该选定区域进行双线性内插处理,以获得该目标像素点的一内插结果。
9.根据权利要求1所述的影像内插的处理方法,其中在判断该目标像素点位于该渐层区域或该非渐层区域的步骤之前,还包括:
利用该边缘检测法检测该选定区域内的所有像素点的边缘强度及边缘方向,藉以判定该目标像素点的一区域型别,其中该区域型别包括一边缘区域、一平滑区域以及一纹理区域。
10.根据权利要求9所述的影像内插的处理方法,其中:
若该目标像素点的该区域型别为该边缘区域,接着判断该目标像素点位于该渐层区域或该非渐层区域,
若该目标像素点的该区域型别为该平滑区域,对该选定区域进行双线性内插处理,
若该目标像素点的该区域型别为该纹理区域,对该选定区域进行双立方内插处理。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华晶科技股份有限公司,未经华晶科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110294525.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。