[发明专利]能降低直至消除VOC排放的羟烷基芳基酮光引发剂有效

专利信息
申请号: 201110293714.2 申请日: 2011-09-29
公开(公告)号: CN102417553A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 叶正培;王辉明;林海兰;胡亚林 申请(专利权)人: 长沙新宇高分子科技有限公司
主分类号: C08F2/48 分类号: C08F2/48;C07C45/64;C07C49/83;C07C49/82;C07C49/84;C07F7/08
代理公司: 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 代理人: 郭立中
地址: 410003 湖南省*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 降低 直至 消除 voc 排放 烷基 芳基酮光 引发
【权利要求书】:

1.能降低直至消除挥发性有机化合物排放的羟烷基芳基酮光引发剂,其特征在于,该光引发剂的化学结构如式(I)所示:

其中:必须同时满足以下两个条件:

(1)Ar为取代的或非取代的芳基,此类芳基的特点是:由此芳基所形成的芳醛其常压沸点应大于179℃;

上述非取代芳基包含但不限于八元或八元以上的单环芳基、稠环芳基、杂单环芳基以及杂多环芳基;

上述取代芳基包含但不限于各类单取代和/或多取代的芳基;上述取代芳基被以下基团所取代:如苯基、卤素、C1-C12烷基、C5-C6的环烷基、-OH、OM1、-SH、-OM1OH、-SM1、-SOM1、SO2M1、-SO2NH(C1-C4烷基)、-NM2M3、-NHCOM1或-N(C1-C4烷基);其中M1、M2和M3为C1-C12的烃基基团;

(2)Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、Z6是不同时为氢原子,且六个基团的碳原子数和杂原子数相加之和应等于或大于5的各类有机基团;对此六个基团关键的限制条件是:由Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、Z6所形成如式(II)烷基酮结构的化合物其常压沸点应大于155℃。

2.根据权利要求1所述能降低直至消除挥发性有机化合物排放的羟烷基芳基酮光引发剂,其特征在于,所述非取代芳基包括萘基、蒽基、菲基或咔唑基;所述取代芳基被以下基团所取代:苯基、卤素、烷基或环烷基;

所述Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、Z6的具体结构包括:如C1-C20烷基、该烷基是未被取代或被-OH、C1-C4烷氧基、-SH、-CN、-COO(C1-C4烷基)、-COM1、-NM2M3所取代;或Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、Z6彼此独立为C3-C10环烷基、C1-C20烷氧基、C1-C20烷硫基、C1-C20硅烷基、取代氨基、羟基、羧基、卤素基、苯基、卤代苯基、M2-O-苯基、M2-S-苯基或苯基-C1-C4烷基、杂环基;或者Z1、Z2、Z3与C1原子一起形成多元环烷烃、多元杂环化合物;Z4、Z5、Z6与C2原子一起形成多元环烷烃、多元杂环化合物;其中M1、M2和M3为C1-C12的烃基基团。

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