[发明专利]多晶硅铸锭坩埚喷涂免烧结方法有效
申请号: | 201110281457.0 | 申请日: | 2011-09-21 |
公开(公告)号: | CN102367572A | 公开(公告)日: | 2012-03-07 |
发明(设计)人: | 熊涛涛;马良;印亚峰;刘瑞柱;王俊涛 | 申请(专利权)人: | 安阳市凤凰光伏科技有限公司 |
主分类号: | C23C20/08 | 分类号: | C23C20/08;C30B28/06;C30B29/06 |
代理公司: | 安阳市智浩专利代理事务所 41116 | 代理人: | 王好勤 |
地址: | 456400 河*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多晶 铸锭 坩埚 喷涂 烧结 方法 | ||
技术领域
本发明涉及太阳能单晶、多晶硅片制造技术领域,进一步涉及多晶硅铸锭技术,尤其是多晶硅铸锭坩埚喷涂免烧结方法。
背景技术
在多晶硅生产技术中,涉及多晶硅铸锭坩埚喷涂烘烤技术。现有技术是:将粉末氮化硅加水(氮化硅分子式为Si3N4,是一种重要的结构陶瓷材料。它是一种超硬物质,本身具有润滑性,并且耐磨损;除氢氟酸外,它不与其它无机酸反应,抗腐蚀能力强,高温时抗氧化。而且它还能抵抗冷冲击,有空气中加热到1000℃以上,急剧冷却再急剧加热,也不会碎裂),搅均后涂喷在坩埚表面,在加热作用下,使液态氮化硅均匀的吸附坩埚表面,形成粉状涂层,喷涂后再对坩埚进行烘烤,从而固化。涂层目的是保护石英坩埚在高温下石英坩埚与硅隔离,使液态硅不与石英坩埚反应,而使石英坩埚破裂,及冷确后最终保证硅碇脱膜完整性。
现有技术的缺陷是:1、喷涂后需要对坩埚进行烘烤,每只坩埚一次烘烤耗电大概为400KWh左右,烘烤周期较长能耗高;2、在高温下很多杂质会挥发到坩埚里面去,污染坩埚涂层。最终导致产品质量下降,影响电池转转效率。
发明内容
本发明的目的是提供一种多晶硅铸锭坩埚免烧结技术,它克服了现有技术的缺陷,无需烧结直接装料使用,节能减耗,降低生产成本,提高硅锭的质量指标。
本发明的目的是通过以下方案实现的:
本发明采用非杂质的物质将α-Si3N4粉体与石英坩埚表面形成键合,使作为脱模剂的Si3N4粉体附着在石英坩埚表面,达到工艺要求。这里对非杂质物质的要求是只能含有Si、C、H、O、N这五种元素。从目前已知的可以达到此性能的材料中,发现配制硅溶胶-凝胶(SOL-GEL)有此性质,除此之外,未发现其它物质。硅溶胶-凝胶法主要采取正硅酸乙酯(TEOS)进行水解、缩聚而成。在TEOS反应过程中,首先会形成溶胶,此时进行干燥、烧结,会形成小颗粒SiO2,而当TEOS溶胶长时间放置后,会形成粘度较大的凝胶,此时如进行涂覆,就会形成完整的薄层玻璃。经过低温烘干,此时会在表面形成化学键,使氮化硅键合,附着在坩埚上。本发明主要创新点即是将硅溶胶-凝胶制备刷在坩埚内壁,然后再喷涂使用行业通用的氮化硅与水。
具体是:
多晶硅铸锭坩埚喷涂免烧结方法,其特征在于包括以下步骤:a在坩埚内壁上刷一层硅溶胶-凝胶混合物,混合物中,硅溶胶20-100克,硅凝胶500-1200克;涂刷硅溶胶-凝胶后形成一层很薄的玻璃结构层;b将氮化硅放入纯净水中,按370-420克氮化硅加纯净水1000-1800毫升,搅拌均匀,形成氮化硅悬浮液;c将氮化硅悬浮液喷涂于硅溶胶-凝胶混合物的玻璃结构层表面。
本发明专利还可通过以下方案进一步实现:
所述b步骤中,纯净水为去离子纯水,电阻率为10~18兆欧姆。
所述b步骤中,氮化硅加纯净水搅拌,指在常温下(即24℃左右)搅拌20-40分钟。
所述c步骤的氮化硅悬浮液喷涂,在坩埚内壁处于35-65℃的温度的情况下进行。
所述氮化硅指高纯单晶氮化硅(α-Si3N4);其粗细均匀、表面光滑,直径5~80nm。
所述硅溶胶-凝胶(SOL-GEL)混合物为直径为1~100nm的胶体粒子悬浮液。
所述凝胶是指由亚微米微孔和平均长度大于1um的聚合链构成的刚性互连网状结构,pH在4~7之间形成凝胶。
所述硅溶胶-凝胶,采取正硅酸乙酯进行水解、缩聚而成,制备步骤如下:
a按正硅酸乙酯:乙醇:(水+催化剂)=1:3:(10:0.01)摩尔比关系,分别称取正硅酸乙酯、乙醇、水和催化剂;
b将正硅酸乙酯、乙醇混合;
c将含催化剂的去离子水缓慢加到上述混合溶液中,磁力搅拌器剧烈搅拌1h到2h,便可得到溶胶。
d在催化剂的催化下0.5h到1h内形成凝胶。
所述正硅酸乙酯的纯度为优级纯;乙醇为溶度99.7%无水酒精;水要求为去离子纯水,电阻率10兆到18兆;催化剂为盐酸(HCl)要求优级纯、溶度35%-38%。所述的无水乙醇为99.7%的无水酒精。
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