[发明专利]饮用水制造装置及饮用水制造方法无效
| 申请号: | 201110281226.X | 申请日: | 2011-09-21 |
| 公开(公告)号: | CN102910749A | 公开(公告)日: | 2013-02-06 |
| 发明(设计)人: | 神崎靖;广濑哲 | 申请(专利权)人: | 格林安株式会社 |
| 主分类号: | C02F9/02 | 分类号: | C02F9/02;C02F9/04;C02F1/44;B01D61/08;B01D65/02 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩明星;金光军 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 饮用水 制造 装置 方法 | ||
1.一种饮用水制造装置,使用反渗透膜除去自来水中的杂质,并制造具有持续的抗菌性的、含有矿物质的饮用水,其特征在于,包含:
泵,用于对自来水加压;
反渗透膜,将加压的所述自来水分离成含有杂质的废水和透过水;
并排布置的第一通道和第二通道,用于使所述废水流动;
流量调节单元,具有设置在所述第一通道中以用于控制在该通道中流动的废水流量的流量调节用阀、设置在所述第二通道中以用于开闭该通道的通道开放阀、用于控制该通道开放阀的开闭的控制装置;
水箱,用于存积所述透过水,
在制造饮用水时,关闭所述通道开放阀,通过调节所述流量调节用阀的流量,维持所述透过水的流量,在清洗所述反渗透膜时,一边维持对所述自来水的加压,一边由所述控制装置开放所述通道开放阀,对堆积在所述反渗透膜表面的杂质进行剥离。
2.根据权利要求1所述的饮用水制造装置,其特征在于,通过所述控制装置以预定的间隔和时间开放所述通道开放阀。
3.根据权利要求2所述的饮用水制造装置,其特征在于,所述通道开放阀被开放的间隔为每隔5分钟~60分钟,所述通道开放阀被开放的时间为10秒钟~40秒钟。
4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的饮用水制造装置,其特征在于,在所述反渗透膜和所述水箱之间还具有由含银多孔陶瓷构成的材料,通过使该材料接触所述透过水,在所述透过水中添加银离子。
5.根据权利要求4所述的饮用水制造装置,其特征在于,与所述材料接触之后的所述透过水中含有的银离子浓度为5~90ppb。
6.根据权利要求1至3中的任意一项所述的饮用水制造装置,其特征在于,还包含脉冲电流施加单元,以用于向供给到所述反渗透膜的自来水中接通脉冲电流。
7.根据权利要求1至3中的任意一项所述的饮用水制造装置,其特征在于,在所述反渗透膜和所述水箱之间还具有由一种或多种天然石构成的天然石填充层,通过使所述透过水流经该天然石填充层,在所述透过水中添加矿物质,以使所述透过水的硬度和蒸发残留物与自然水达到同等程度。
8.根据权利要求1至3中的任意一项所述的饮用水制造装置,其特征在于,在所述反渗透膜与所述水箱之间还具有离子交换树脂层和银浸渍活性炭层,所述离子交换树脂层用于从所述透过水除去没能被所述反渗透膜除去的离子,所述银浸渍活性炭层用于从所述透过水除去没能被所述反渗透膜除去的放射性元素。
9.一种饮用水制造方法,使用反渗透膜除去自来水中的杂质,并制造具有持续的抗菌性的、含有矿物质的饮用水,其特征在于,包含:
对自来水加压的工序;
通过反渗透膜,将加压的自来水分离成含有杂质的废水和透过水的工序;
通过并排布置的第一通道和第二通道废弃所述废水的工序;
将所述透过水存积在水箱中的工序,
在制造饮用水时,关闭所述第二通道,通过调节在所述第一通道中流动的废水的流量,维持所述透过水的流量,在清洗所述反渗透膜时,一边维持对所述自来水的加压,一边开放所述第二通道,对堆积在所述反渗透膜表面的杂质进行剥离。
10.根据权利要求9所述的饮用水制造方法,其特征在于,所述第二通道的开放动作以预定的间隔和时间进行。
11.根据权利要求10所述的饮用水制造方法,其特征在于,所述第二通道被开放的间隔为每隔5分钟~60分钟,所述第二通道被开放的时间为10秒钟~40秒钟。
12.根据权利要求9至11中的任意一项所述的饮用水制造方法,其特征在于,还包含通过使所述透过水接触由含银多孔陶瓷构成的材料,在所述透过水中添加银离子的工序。
13.根据权利要求12所述的饮用水制造方法,其特征在于,与所述材料接触之后的所述透过水中含有的银离子浓度为5~90ppb。
14.根据权利要求9至11中的任意一项所述的饮用水制造方法,其特征在于,还包含向被供给到所述反渗透膜的自来水中接通脉冲电流的工序。
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