[发明专利]直下式导光结构、直下式导光板及发光装置有效
| 申请号: | 201110271826.8 | 申请日: | 2011-09-14 |
| 公开(公告)号: | CN102411166A | 公开(公告)日: | 2012-04-11 |
| 发明(设计)人: | 高智伟;侯维新;应文逡;高启仁 | 申请(专利权)人: | 敦网光电股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B6/00 | 分类号: | G02B6/00;F21S8/00;F21V8/00;F21V17/00 |
| 代理公司: | 北京汇智英财专利代理事务所 11301 | 代理人: | 陈践实 |
| 地址: | 中国台湾新竹县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 直下式导光 结构 直下式 导光板 发光 装置 | ||
技术领域
本发明有关一种直下式导光结构、一种直下式导光板及一种发光装置,特别关于一种可均匀光线强度的直下式导光结构与直下式导光板,及一种应用该直下式导光结构或该直下式导光板的发光装置。
背景技术
目前的平面型发光装置(flat lighting device)渐渐地采用多个发光二极管作为光源,以取代传统的白热灯管或荧光灯管。当该些发光二极管作为光源时,通常是直接设置于平面型发光装置的底部。该些发光二极管发射光线,而该些光线的强度在正视角方向(也就是垂直发光二极管的发光面的方向)上会最强。因此,平面型发光装置所输出的光线并不均匀,可观察到局部暗点(光线强度最弱的区域)或局部亮点(光线强度最强的区域)。
为了改善上述的局部暗点或局部亮点,可将一光线扩散板设置在该些发光二极管的前方,并与该些发光二极管保持一段距离。然而,此改善方式将会增加平面型发光装置的整体厚度。另一种改善局部暗点或亮点的方式为:增加发光二极管的数目。然而,此改善方式将会增加平面型发光装置的制造成本。
有鉴于此,如何改善至少一种上述缺点,乃为此业界亟待解决的问题。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种直下式导光结构、直下式导光板及一种发光装置,该直下式导光结构或直下式导光板可接收光线,然后将光线均匀地输出;该发光装置可应用该直下式导光结构或直下式导光板。
为达上述目的,本发明所揭露的直下式导光结构包含一透光本体及多个微结构;其中,透光本体包含一上表面、一下表面、一上锥形槽及一下容置槽,上锥形槽形成于上表面上,下容置槽形成于下表面上,上锥形槽具有一斜率连续变化的曲面;该些微结构设置于透光本体上。
为达上述目的,本发明所揭露的直下式导光板,包含:多个前述的直下式导光结构,该些直下式导光结构的透光本体相连接。
为达上述目的,本发明所揭露的发光装置包含至少一电路板、至少一光源及至少一个前述的直下式导光结构;其中,电路板包含一顶面及一底面;光源设置于电路板的顶面上;直下式导光结构设置于电路板的顶面上,而光源容置于直下式导光结构的下容置槽中。
为让上述目的、技术特征及优点能更明显易懂,下文以较佳的实施例配合附图进行详细说明。
附图说明
图1为依据本发明第一较佳实施例的发光装置的剖视图;
图2为图1的直下式导光结构的透光本体的立体图;
图3A为光线在图1的透光本体中传递的示意图;
图3B为图1的透光本体中的光线能量分布图;
图3C为对应图3B的光线角度分布图;
图3D为光线在图1的透光本体中传递的另一示意图;
图4A为依据本发明第二较佳实施例的发光装置的剖视图;
图4B为光线在图4A的透光本体中传递的示意图;
图5为依据本发明第三较佳实施例的发光装置的剖视图;
图6为依据本发明第四较佳实施例的发光装置的剖视图;
图7为依据本发明第五较佳实施例的发光装置的剖视图;
图8为依据本发明第六较佳实施例的发光装置的剖视图;
图9为依据本发明第七较佳实施例的发光装置的剖视图;
图10A为依据本发明第八较佳实施例的发光装置的剖视图;
图10B为图10A的发光装置的直下式导光板的立体图;
图10C为图10A的发光装置的直下式导光板的另一视角的立体图;
图11A为依据本发明第九较佳实施例的发光装置的剖视图;
图11B为图11A的透光本体中的光线能量分布图;
图11C为依据本发明第九较佳实施例的发光装置的另一剖视图;
图11D为依据本发明第九较佳实施例的发光装置的又一剖视图;
图11E为依据本发明第九较佳实施例的发光装置的再一剖视图;
图12A为依据本发明第十较佳实施例的发光装置的剖视图;
图12B为图12A的发光装置的直下式导光板的立体图;
图12C为图12A的发光装置的直下式导光板的另一视角的立体图;
图13为依据本发明第十一较佳实施例的发光装置于组合状态的俯视图;
图14为依据本发明第十一较佳实施例的发光装置于分解状态的俯视图;
图15为依据本发明第十一较佳实施例的发光装置于组合状态的侧视图;
图16为图13的发光装置的两个直下式导光结构的立体图(微结构未示);
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于敦网光电股份有限公司,未经敦网光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110271826.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





