[发明专利]氧化石墨烯的还原方法

权利要求书

1.一种氧化石墨烯的还原方法，其特征在于，该方法为：取质量比在1000:1 – 1:1000的二异氰酸酯修饰的双亲性聚合物和氧化石墨烯在有机溶剂中于50-200 oC反应0.1-120 h，而后将固态产物自反应混合物中分离出来，并以有机溶剂充分洗涤，获得目标产物还原石墨烯；

所述二异氰酸酯修饰的双亲性聚合物为双亲性聚合物与二异氰酸酯反应后的产物；

所述二异氰酸酯至少选自甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、4，4’-亚甲基双异氰酸苯酯、异佛尔酮二异氰酸酯、三甲基己二异氰酸酯、二环己基甲烷二异氰酸酯和对苯二异氰酸酯中的任意一种以上；

所述双亲性聚合物至少选自聚乙二醇、单甲基聚乙二醇、吐温、Triton、F-68、对辛基苯酚聚氧乙烯醚、山梨醇脂肪酸酯和聚氧丙烯醚中的任意一种以上；

所述有机溶剂至少选自N,N-二甲基甲酰胺 (DMF)、二甲基亚砜 (DMSO)和N-甲基吡啶-2-吡咯烷酮 (NMP) 中的任意一种以上。

2.根据权利要求1所述的氧化石墨烯的还原方法，其特征在于，所述二异氰酸酯修饰的双亲性聚合物与氧化石墨烯的质量比优选为100：1 –1：100。

3.根据权利要求1-2中任一项所述的氧化石墨烯的还原方法，其特征在于，所述氧化石墨烯为采用Hummer方法制备的氧化石墨烯。

4.根据权利要求1所述的氧化石墨烯的还原方法，其特征在于，所述还原石墨烯中含有0.1-99 wt%的二异氰酸酯修饰的双亲性聚合物。

5.一种氧化石墨烯的还原方法，其特征在于，该方法为：取质量比在100:1 – 1:100的二异氰酸酯和氧化石墨烯在有机溶剂中于50-200 oC反应0.1-120 h，分离固态产物并充分洗涤后，加入与氧化石墨烯质量比为1000:1–1:1000的双亲性聚合物，在有机溶剂中于50-200 oC反应0.1-120 h，其后将固态产物自反应混合物中分离出来，并以有机溶剂充分洗涤，获得目标产物还原石墨烯；

所述二异氰酸酯至少选自甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、4，4’-亚甲基双异氰酸苯酯、异佛尔酮二异氰酸酯、三甲基己二异氰酸酯、二环己基甲烷二异氰酸酯和对苯二异氰酸酯中的任意一种以上；

所述双亲性聚合物至少选自聚乙二醇、单甲基聚乙二醇、吐温、Triton、F-68、对辛基苯酚聚氧乙烯醚、山梨醇脂肪酸酯和聚氧丙烯醚中的任意一种以上；

所述有机溶剂至少选自N,N-二甲基甲酰胺 (DMF)、二甲基亚砜 (DMSO)和N-甲基吡啶-2-吡咯烷酮 (NMP) 中的任意一种以上。

6.根据权利要求5所述的氧化石墨烯的还原方法，其特征在于，所述二异氰酸酯与氧化石墨烯的质量比优选为10：1 – 1：10。

7.根据权利要求5所述的氧化石墨烯的还原方法，其特征在于，所述双亲性聚合物与氧化石墨烯的质量比优选为100：1 – 1：100。

8.根据权利要求5-7中任一项所述的氧化石墨烯的还原方法，其特征在于，所述氧化石墨烯为采用Hummer方法制备的氧化石墨烯。

9.根据权利要求5所述的氧化石墨烯的还原方法，其特征在于，所述还原石墨烯中含有0.1-99 wt%由双亲性聚合物与二异氰酸酯反应生成的二异氰酸酯修饰的双亲性聚合物。