[发明专利]一种光刻胶清洗液在审
| 申请号： | 201110259609.7 | 申请日： | 2011-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN102981376A | 公开（公告）日： | 2013-03-20 |
| 发明（设计）人： | 孙广胜;刘兵;彭洪修 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 清洗 | ||
1.一种光刻胶清洗液，该清洗液包含：氢氧化钾、胺醇、季戊四醇、木糖醇和其它助溶剂。
2.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，所述氢氧化钾的质量百分比含量为0.1～10％；所述醇胺的质量百分比含量为5～40％；所述季戊四醇的质量百分比含量为0.1-15％；所述木糖醇的质量百分比含量为0.1～10％，所述其它助溶剂为余量。
3.如权利要求2所述清洗液，其特征在于，所述氢氧化钾的质量百分比含量为0.1～5％；所述醇胺的质量百分比含量为10-35％；所述季戊四醇的质量百分比含量为0.1-15％；所述木糖醇的质量百分比含量为0.1～5％，所述其它助溶剂为余量。
4.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，所述的醇胺为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、正丙醇胺、异丙醇胺、2-(二乙氨基)乙醇、乙基二乙醇胺和二甘醇胺中的一种或几种。
5.如权利要求1所述清洗液，其特征在于，所述的助溶剂选自亚砜、砜、咪唑烷酮、咪唑啉酮、吡咯烷酮、醇醚、酰胺中的一种或多种。
6.如权利要求5所述清洗液，其特征在于，所述的亚砜为二甲基亚砜；所述的砜为环丁砜；所述的咪唑烷酮为1，3-二甲基-2-咪唑烷酮；所述的咪唑啉酮为1，3-二甲基-2-咪唑啉酮；所述的吡咯烷酮为N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-羟乙基吡咯烷酮和N-环己基吡咯烷酮中的一种或几种；所述的酰胺为二甲基甲酰胺和/或二甲基乙酰胺；所述的醇醚为乙二醇醚和/或丙二醇醚。
7.如权利要求6所述清洗液，其特征在于，所述的乙二醇醚为二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚中的一种或几种；所述的丙二醇醚为二丙二醇单甲醚和/或二丙二醇单乙醚。
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