[发明专利]一次性小阴唇整形手术设计器无效

专利信息
申请号: 201110256738.0 申请日: 2011-09-01
公开(公告)号: CN102429708A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: 王韶亮;赵映兰;樊东力;张一鸣;雷泽源;陈宇;毛彤春;李翔;刘晓伟;卢昊;石小花 申请(专利权)人: 中国人民解放军第三军医大学第二附属医院
主分类号: A61B17/42 分类号: A61B17/42
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 赵荣之
地址: 400037 重*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 一次性 阴唇 整形手术 设计
【说明书】:

技术领域

发明涉及医疗器械领域,特别涉及一种用于小阴唇整形术的辅助器械。

背景技术

小阴唇整形手术常适用于小阴唇肥大或两侧小阴唇明显不对称的女性,手术危险性低,术后效果好,不仅能够帮助患者解决小阴唇肥大等美观问题,而且还能提高患者的生活质量。目前,该手术在进行前需要进行画线设计,预先设计好需要切除的部位,这种方式存在操作不便、手术效率低、画线准确度较低等不足。 

针对上述不足,需探索一种用于术前设计的方式,以使手术设计和操作更方便,提高切除准确度,并提高手术效率。

发明内容

有鉴于此,本发明提供一种一次性小阴唇整形手术设计器,使用该设计器可代替现有技术中画线等操作,达到使手术的设计和操作更方便、提高切除准确度并提高手术效率的目的。

本发明的一次性小阴唇整形手术设计器,包括相互铰接形成可开合结构的两根连接条,所述两根连接条的一端分别设置有可裁剪的参照片,两根连接条闭合时两片参照片完全重叠。

进一步,所述参照片为半圆形,参照片的直线边与连接条共线并连接于连接条上,参照片上设置多条由半圆圆心向外辐射的参照线,参照片上沿参照线设置有长度刻度;

进一步,所述长度刻度为以参照片圆心为中心并沿径向并列分布的多条弧线;

进一步,所述参照片上沿参照线设置有多个孔;

进一步,所述两根连接条上设置有用于保持连接条闭合状态的卡子;

进一步,所述参照片由透明塑料制成。

本发明的有益效果:本发明的一次性小阴唇整形手术设计器,包括相互铰接形成可开合结构的两根连接条,所述两根连接条的一端分别设置有可裁剪的参照片,两根连接条闭合时两片参照片完全重叠,该设计器用于两侧小阴唇大小不对称的整形手术时,首先使用两片参照片夹持小侧小阴唇,并将参照片裁剪成与小侧小阴唇相同的形状,然后将裁剪后的两片参照片夹持需切除一侧的小阴唇,以重叠的参照片作为参考模板进行画线或切除,操作方便,可有效提高手术准确度和手术效率。同样,用于小阴唇两侧均肥大的治疗手术时,也可预先在参照片上设计好术后形状,以达到上述效果。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明作进一步描述。

图1为本发明打开时的结构示意图。

具体实施方式

包括,, 

以下结合附图对本发明作详细说明,如图所示:本实施例的一次性小阴唇整形手术设计器,相互铰接形成可开合结构的两根连接条1,连接条一般用具有一定硬度的塑料制成,所述两根连接条1的一端分别设置有可裁剪的参照片2,参照片可以裁剪,以便于使用其进行参照对比后能制作成参照对比物的形状,两根连接条1闭合时两片参照片2完全重叠,用于对两侧不对称的小阴唇进行整形手术时,以便于将经过参照裁剪获取的小侧形状作为大侧的参照模板进行画线或切除,相对于现有技术中依靠目测画线或切除的过程,操作更方便、手术准确度和效率更高。

作为上述技术方案的进一步改进,所述参照片2为半圆形,适应小阴唇部位的形状构造,便于进行对比测量,参照片2的直线边与连接条1共线并连接于连接条1上,参照片2上设置多条由半圆圆心向外辐射的参照线3,参照片2上沿参照线3设置有长度刻度4,通过刻度可以记录所对比侧轮廓边缘所在的位置,以便于测量完成后再进行剪切,方便操作,准确度高。

作为上述技术方案的进一步改进,所述长度刻度4为以参照片2圆心为中心并沿径向并列分布的多条弧线,以弧线作为裁剪时的参照,方便准确。

作为上述技术方案的进一步改进,所述参照片2上沿参照线3设置有多个孔5,网状分布的多个孔使参照片的裁剪更为容易,同时,也可通过孔插入标记针来记录对比测量对象的轮廓,进一步提高操作的方便性和准确度。

作为上述技术方案的进一步改进,所述两根连接条1上设置有用于保持连接条1闭合状态的卡子6,使设计器闭合后可自行固定,只需一人即可完成手术操作,避免多人同时参与造成操作空间不足等问题。

作为上述技术方案的进一步改进,所述参照片2由透明塑料制成,以便于进行观察。

最后说明的是,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制,尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。

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