[发明专利]微透镜阵列制造方法、固态图像传感器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110235097.0 申请日: 2011-08-17
公开(公告)号: CN102375334A 公开(公告)日: 2012-03-14
发明(设计)人: 栗原政树 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G02B3/00;H01L27/146
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 李颖
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 透镜 阵列 制造 方法 固态 图像传感器 及其
【权利要求书】:

1.一种制造微透镜阵列的方法,所述方法包括:

在包含多个光接收部分的结构上形成抗蚀剂膜;

使用光掩模将所述抗蚀剂膜曝光,其中,在所述光掩模中布置有用于形成多个微透镜的多个透镜图案;

通过显影曝光后的抗蚀剂膜来形成抗蚀剂图案;以及

通过使所述抗蚀剂图案退火来形成所述多个微透镜,

其中,所述多个透镜图案包含具有相互不同的曝光光透射率分布的透镜图案。

2.根据权利要求1的方法,其中,具有相互不同的曝光光透射率分布的透镜图案中的每一个包含根据包含光接收部分的像素的颜色而确定的透镜图案。

3.根据权利要求1的方法,其中,具有相互不同的曝光光透射率分布的透镜图案包含具有焦点检测功能的像素的透镜图案和不具有焦点检测功能的正常像素的透镜图案。

4.根据权利要求1的方法,其中,具有相互不同的曝光光透射率分布的透镜图案中的每一个包含根据包含光接收部分的像素的位置而确定的透镜图案。

5.根据权利要求1的方法,其中,光透射率在所述多个透镜图案之中的相邻微透镜的边界处是连续的。

6.一种制造固态图像传感器的方法,所述方法包括:

形成包含多个光接收部分的结构;

在所述结构上形成抗蚀剂膜;

使用光掩模将所述抗蚀剂膜曝光,其中,在所述光掩模中布置有用于形成多个微透镜的多个透镜图案;

通过显影曝光后的抗蚀剂膜来形成抗蚀剂图案;以及

通过使所述抗蚀剂图案退火来形成所述多个微透镜,

其中,所述多个透镜图案包含具有相互不同的曝光光透射率分布的透镜图案。

7.根据权利要求6的方法,其中,光透射率在所述多个透镜图案之中的相邻微透镜的边界处是连续的。

8.一种固态图像传感器,所述固态图像传感器包含具有焦点检测功能的第一像素和不具有焦点检测功能而获得图像信号的第二像素,

所述第一像素包含第一光接收部分、第一微透镜、以及被布置在第一光接收部分和第一微透镜之间的具有开口的遮光膜,以及

第二像素包含第二光接收部分和第二微透镜,

其中,第一微透镜和第二微透镜具有相互不同的焦距,并且,第一微透镜在合焦状态中焦点位于所述开口中。

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