[发明专利]一种兼具高可见光吸收和高红外辐射的薄膜的制作方法

权利要求书

1.一种兼具高可见光吸收和高红外辐射的薄膜的制作方法，其特征在于：该薄膜制作的过程具体如下：

步骤一：选择透可见光衬底，大小根据实际需要确定；

步骤二：清洗衬底操作面；

步骤三：在清洗后的衬底操作面上旋涂光刻胶，形成胶层；

胶层面积根据实际需要确定，小面积直接加工而成，而较大面积则用小面积进行拼接制作；胶层的厚度根据透明衬底材料的热导率和表面附着性能确定，透明衬底材料的热导率越高，胶层需要的厚度越大；透明材料的表面附着性能越高，胶层需要的厚度越小；

步骤四：采用微机械加工技术控制工艺过程碳化胶层，形成吸收层；

胶层被碳化的厚度根据微机械加工技术碳化胶层的能力和辐射层透光性决定，碳化程度越高，需要吸收层碳化厚度越小；辐射层透光性越大，需要吸收层碳化厚度越大；

步骤五：在吸收层的表面溅射一层高红外辐射材料形成辐射层，最终形成兼具高可见光吸收和高红外辐射的薄膜。

2.如权利要求1所述的一种兼具高可见光吸收和高红外辐射的薄膜的制作方法，其特征在于：所述步骤二清洗衬底操作面具体为：依次采用超声波、丙酮、乙醇和去离子水彻底清洗衬底操作面。

3.如权利要求1所述的一种兼具高可见光吸收和高红外辐射的薄膜的制作方法，其特征在于：进一步地，在制作胶层后，通过光刻工艺将胶层刻成所需图形，然后制作完辐射层时，再对辐射层进行光刻刻蚀，形成于胶层图形重合的辐射层。

4.如权利要求1所述的一种兼具高可见光吸收和高红外辐射的薄膜的制作方法，其特征在于：所述小面积为1～3英寸。