[发明专利]一株多瓜高产大果型西瓜栽培技术

说明书

技术领域

本发明涉及一种农业瓜果类作物栽培技术，具体涉及抗重茬、易坐果，坐果后不需掐尖、不需打杈，任其自然生长，既省心、省力又高产；可提高单果重量或一株产出多瓜、特多瓜的一种一株多瓜高产大果型西瓜的栽培技术。 

背景技术

西瓜属葫芦科一年生蔓性草本植物，西瓜堪称瓜中之王，是最常见的水果之一；因在汉代时从西域引入，故称西瓜。目前除少数边远寒冷地区外，国内各地均有种植，在我国已有数百年的栽培历史。西瓜脆嫩多汁，是消暑解渴佳品，深受消费者喜爱；随着人们生活水平的提高，对西瓜的需求量在逐年增加。 

传统的大果型西瓜，中国著名的吉林洮南黑水西瓜，采用传统的栽培技术，一般一株只控制产出1个西瓜，单个重量为8-12kg，一般产量为每公顷50-80吨；如果任其坐果再多，就要影响生长和产量，同时，坐果也较为困难。目前，采用传统的栽培管理技术，需要掐尖、打杈、反复压蔓；而掐尖、打杈、压蔓是一项较复杂、繁琐、需大量人力的工作；因此，生产一株多瓜高产大果型西瓜，易导致坐果困难，西瓜果实偏小，产量偏低，果实的商品性下降，经济效益大幅度降低。 

多年来，西瓜一般不能重茬，如重茬，轻则减产10-20％，重则绝收；目前，一般是实行轮作，避免重茬，轮作期3-5年。随着西瓜栽培面积的不断扩大，连作种植亦不可避免，所以在生产中西瓜连作障碍十分严重，产量及品质都大幅度下降。西瓜连作栽培常常造成土壤营养失衡，西瓜生长受阻；土壤有益微生物菌群下降，病原菌积累的数量增加，土传病害加重。目前，对西瓜连作障碍的防治，常采用化学药剂，但防治效果不理想；且长期大量使用化学药剂，会导致病原菌产生抗药性，产生农药污染等一系列问题，对人类的健康和环境造成严重的问题。 

发明内容

鉴于上述问题，本发明提供一种一株多瓜高产大果型西瓜栽培技术；用本栽培技术种植西瓜，不怕重茬，管理可不用掐尖、不用打杈，任其自然生长；既省心、省力又高产，强化了单株生长优势，增强了根系对水分的吸收能力。本发明的西瓜栽培技术，省工、抗病、增产，可提高单果重量或一株产出多瓜或特多瓜。本栽培技术操作简便、易行，成苗率高，可降低西瓜的生产成本，提高产量，节约土地资源，提高土地利用率，增加经济效益。 

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一株多瓜高产大果型西瓜栽培技术，包括下述步骤： 

A.土地准备： 

a.选择土层深厚、肥沃、排水方便的沙质土壤，可以是重茬土地； 

b.封冻前翻地，深度30-80cm； 

c.冬灌； 

B.播种前施肥： 

a.每公顷施有机肥10000-45000kg、腐熟大豆100-150kg，重茬种植要比生茬种植增加20％的施肥量； 

b.每公顷施二铵250-300kg、尿素150-200kg、硫酸钾200-300kg、过磷酸钙300-350kg，重茬种植要比生茬种植增加20％的施肥量； 

C.种植：可采用大田直播和基质营养体育苗移栽两种方法； 

a.基质营养体育苗移栽：阳畦育苗，苗龄25天左右，可根据春季霜冻期定育苗时间；先栽植后覆地膜：气温8℃-12℃情况下，把育成苗移栽至大田后覆地膜；先覆地膜后移植：地膜下温度15℃-18℃情况下，地膜开孔移植；每公顷400-8000穴匀布，株距70-80cm，行距120cm； 

b.大田直播：播种土地5cm以下地温15℃-17℃，底墒足，开始播种，每穴播2粒种子，每公顷400-8000穴匀布，株距70-80cm，行距120cm，播种深度15-20mm； 

D.田间管理： 

a.植株出土后，4-5片真叶时定苗，每穴1株，展开5-6片叶时进行中耕，播种后要适时浇水，土壤缺水时应采取小浇水、浇暗水的方式灌溉； 

b.在抽蔓期，采用多蔓整枝方式，要把每株所长出的各瓜蔓均匀分开，合理利用阳光，不能重叠，要防止大风刮乱瓜蔓，要压一次蔓； 

c.坐果前7天，喷1-2次硼肥； 

d.结果期，要留瓜节位的雌花开放到该瓜退乳毛时，要继续把瓜蔓均匀分布，防止大风将瓜蔓重叠，还要保持土壤水分；西瓜属虫媒花，花清晨开放下午闭合，如有蜜蜂或昆虫可不需要人工授粉，如没有，最好适时人工辅助授粉，以保证坐果整齐，成熟一致的目标；结果后，不掐尖、不打杈，果实坐稳后，确保肥水充足，任其自然生长，不但可以增加叶面面积，提高产量，而且进一步增强了根系对肥水的吸收能力，强化了单株生长的优势；